[發明專利]玻璃基板的制造方法在審
| 申請號: | 201280002945.6 | 申請日: | 2012-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN103118992A | 公開(公告)日: | 2013-05-22 |
| 發明(設計)人: | 小山昭浩;大島五月 | 申請(專利權)人: | 安瀚視特控股株式會社 |
| 主分類號: | C03B1/00 | 分類號: | C03B1/00;C03B5/225;C03C3/091 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香蘭;龐東成 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 制造 方法 | ||
1.一種玻璃基板的制造方法,其是制造含有SiO2及Fe2O3且SiO2的含有率為50質量%~70質量%的液晶顯示裝置用玻璃基板的方法,該制造方法的特征在于,其具有如下工序:
原料調合工序,其中,至少使用以SiO2作為主成分的二氧化硅原料與含有氧化鐵的調整原料進行調合而制造玻璃原料;
熔解工序,其中,熔解所述玻璃原料而制造熔融玻璃;及
澄清工序,其中,對所述熔融玻璃進行澄清,
所述二氧化硅原料含有作為雜質的氧化鐵,在以Fe2O3表示所述氧化鐵時,所述二氧化硅原料含有0.001質量%~0.028質量%的Fe2O3,
所述調整原料在所述玻璃原料中的含量是按照所述液晶顯示裝置用玻璃基板的波長300nm的透過率為30%以上的方式來進行調整的。
2.如權利要求1所述的玻璃基板的制造方法,其中,所述調整原料的所述含量進一步根據所述熔融玻璃在所述澄清工序中的澄清效果來進行調整。
3.如權利要求1或2所述的玻璃基板的制造方法,其中,相對于所制造的玻璃基板中所含的Fe2O3的含量,源自所述二氧化硅原料的雜質的玻璃基板中所含的Fe2O3的含量為50質量%以下。
4.如權利要求1~3任一項所述的玻璃基板的制造方法,其中,
所述玻璃基板含有1質量%~10質量%的CaO,
所述玻璃原料除所述二氧化硅原料以外,還含有作為所述CaO的原料的石灰石,
所述石灰石含有作為雜質的氧化鐵,在以Fe2O3表示所述石灰石所含有的氧化鐵時,所述石灰石含有0.001質量%~0.05質量%的Fe2O3,
此時,所述玻璃原料所使用的所述二氧化硅原料含有0.001質量%~0.015質量%的Fe2O3。
5.如權利要求1~3任一項所述的玻璃基板的制造方法,其中,
所述玻璃基板含有1質量%~15質量%的CaO,
所述玻璃原料除所述二氧化硅原料以外,還含有作為所述CaO的原料的石灰石,
所述石灰石含有作為雜質的氧化鐵,在以Fe2O3表示所述石灰石所含有的氧化鐵時,所述石灰石含有0.001質量%~0.05質量%的Fe2O3,
此時,所述玻璃原料所使用的所述二氧化硅原料含有0.001質量%~0.0125質量%的Fe2O3。
6.如權利要求4或5所述的玻璃基板的制造方法,其中,相對于所制造的玻璃基板中所含的Fe2O3的含量,源自所述二氧化硅原料及所述石灰石的雜質的玻璃基板中所含的Fe2O3的含量為50質量%以下。
7.如權利要求1~6任一項所述的玻璃基板的制造方法,其中,所述玻璃基板含有0.15質量%~0.25質量%的SnO2。
8.如權利要求1~7任一項所述的玻璃基板的制造方法,其中,所制造的玻璃基板的β-OH值為0.45/mm以下。
9.如權利要求1~8任一項所述的玻璃制造方法,其中,所述玻璃基板中實質上不含有As2O3及Sb2O3。
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