[實用新型]一種防震硬盤托架有效
| 申請號: | 201220749154.7 | 申請日: | 2012-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN203149464U | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發明(設計)人: | 周耀輝 | 申請(專利權)人: | 浪潮(北京)電子信息產業有限公司 |
| 主分類號: | G06F1/18 | 分類號: | G06F1/18 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 曲鵬;張華卿 |
| 地址: | 100085 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防震 硬盤 托架 | ||
技術領域
本實用新型涉及硬盤托架,具體涉及一種防震硬盤托架。
背景技術
高端磁盤陣列中,數據都存儲在硬盤中。硬盤的可靠性進而影響了整個磁盤陣列的可靠性。
現在硬盤都是基于“溫徹斯特”技術,“溫徹斯特”硬盤的一項特征為:讀寫磁頭懸浮于盤片上,進行盤片上數據的讀寫,即,磁頭盤片磁性粒子的電磁感應。
隨著硬盤容量的增加,盤片磁密度增長,要求磁頭飛行高度不斷降低,高度一般為5納米(nm)。這樣低的飛行高度,再遇到硬盤震動,會引起磁頭盤片碰撞。這種碰撞易造成盤面損壞,導致硬盤壞扇區增多。如果發生碰撞的區域存有數據,就可能造成數據丟失。
在磁盤陣列中,軟RAID5代碼實現同步的時候,當讀寫的壞扇區的時候,就剔除該壞扇區所在的硬盤,如果由于一塊壞扇區剔除整個硬盤,就易造成資源浪費。
硬盤在運輸途中,可能遇路途顛簸,搬運磕碰,這些都能導致硬盤磁頭盤片碰撞,托架用來固件硬盤,所以硬盤托架設計至關重要。
一般的硬盤托架設計按照硬盤的大小設計,材料都是金屬材質,沒有設計防震設計,在震動中容易將震動的力傳遞給磁頭、磁臂和盤片碰撞,造成扇區劃傷,丟失數據。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是防止硬盤在運輸和使用中由震動引起的磁頭盤片碰撞,造成的硬盤盤片劃傷,造成數據丟失,提高可靠性,提高可用性。
為了解決上述技術問題,本實用新型提供了一種防震硬盤托架,所述托架包括外殼和防震內層,所述外殼包括側壁和底面,所述側壁和底面組成容納硬盤的腔體;所述防震內層固定在外殼內部。
優選地,所述外殼為金屬外殼。
優選地,所述防震內層為多片EMI彈片,所述EMI彈片固定在側壁和底面的內側。
優選地,所述EMI彈片均勻地固定在側壁和底面的內側。
優選地,所述硬盤托架還包括沙漏,所述沙漏平行的鑲嵌在外殼的側壁上。
優選地,在沙漏的一側裝有沙液。
與現有技術相比,本實用新型在現有的硬盤托架的基礎上增加了防震內層,降低硬盤受震動的影響和盡早的檢測到某些硬盤有過震動,防止有過震動的硬盤使用在磁盤陣列中,影響整個陣列的可靠,造成硬盤數據丟失。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例的防震硬盤托架的結構示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明白,下文中將結合附圖對本實用新型的實施例進行詳細說明。需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互任意組合。
本實用新型從防震方面考慮,將硬盤托架設計成里外兩層,如圖1所示,外層是外殼,內層是防震內層,所述外殼包括側壁和底面,所述側壁和底面組成容納硬盤的腔體;所述防震內層固定在外殼內部。這樣在發生震動的時候,可以依靠防震內層的彈性緩解減弱硬盤的震動,達到防止硬盤震動,保護磁頭盤片碰撞引起的,引起扇區劃傷,數據丟失。
其中外殼可以是金屬外殼,以更堅固的穩定硬盤。防震內層可以為具有彈性慢走絲EMI彈片,EMI彈片固定在外殼的側壁內側和底面。
EMI(Electromagnetic?interference)即:電磁干擾。EMI彈片用來密合機箱縫隙,使高頻電磁干擾,增強板材接觸,減緩震動。
EMI彈片均勻地固定在側壁和底面的內側。EMI彈片均衡分布,使硬盤的在托架中受力均衡,更好起到防震作用。
為了更有效檢測硬盤是否有個大幅度的震動。例如:在運輸途中,硬盤是否發生過震動。在托架上增加用于測試震動的沙漏。所述沙漏平行的鑲嵌在外殼的側壁,每個沙漏平行放置,沙漏中一邊有沙液,當發生震動的時候,一邊的沙液就流到另一邊去了,或者兩邊都有沙液。如果沒有震動,沙漏里面的沙液都在一邊。用這個現象就可以檢測某個硬盤在運輸途中是否發生過震動,是否可用于磁盤陣列中。
采用本實用新型實施例的防震硬盤托架,有效的防止了硬盤因外界震動引起的磁頭盤片碰撞劃傷扇區,防止了數據丟失,提高了硬盤的可靠性。
雖然本實用新型所揭露的實施方式如上,但所述的內容只是為了便于理解本實用新型而采用的實施方式,并非用以限定本實用新型。任何本實用新型所屬技術領域內的技術人員,在不脫離本實用新型所揭露的精神和范圍的前提下,可以在實施的形式上及細節上作任何的修改與變化,但本實用新型的專利保護范圍,仍須以所附的權利要求書所界定的范圍為準。
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