[實用新型]一種均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)及均質(zhì)器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220748285.3 | 申請日： | 2012-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN203002312U | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉祥 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津市產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢測技術(shù)研究院 |
| 主分類號： | B01F15/00 | 分類號： | B01F15/00 |
| 代理公司： | 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 12107 | 代理人： | 高文迪 |
| 地址： | 300000 天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 均質(zhì)器 殼體 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括圓筒狀或橢圓筒狀的殼體本體，所述本體內(nèi)為空腔結(jié)構(gòu)；所述本體內(nèi)壁上設(shè)置有沿著本體周向均勻分布摩擦碰撞結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述摩擦碰撞結(jié)構(gòu)包括沿著本體軸向延伸，并且沿著本體徑向向內(nèi)的凸起。
3.如權(quán)利要求2所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凸起間斷并相互錯開設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述摩擦碰撞結(jié)構(gòu)包括貫通本體頂部到底部的摩擦紋。
5.如權(quán)利要求4所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述摩擦紋傾斜設(shè)置，并且當(dāng)均質(zhì)器為高速轉(zhuǎn)刀式均質(zhì)器時，該摩擦紋傾斜的方向為自下而上沿著轉(zhuǎn)刀旋轉(zhuǎn)的方向延伸。
6.如權(quán)利要求1所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述摩擦碰撞結(jié)構(gòu)包括波紋結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的均質(zhì)器的殼體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述波紋結(jié)構(gòu)上均布有豎直貫通本體頂部到底部的摩擦紋。
8.一種均質(zhì)器，其特征在于：包括如權(quán)利要求1至7任一項所述的殼體結(jié)構(gòu)。
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