[實用新型]反應(yīng)腔室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220735707.3 | 申請日: | 2012-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN203007403U | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃允文;李王俊 | 申請(專利權(quán))人: | 光達(dá)光電設(shè)備科技(嘉興)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉興市浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng) | ||
1.一種反應(yīng)腔室,其特征在于,包括:腔體;設(shè)置于所述腔體內(nèi)的托盤;設(shè)置于所述腔體內(nèi)的旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)通過筒狀側(cè)壁與所述托盤連接,所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)、托盤及筒狀側(cè)壁形成了一容置空間;設(shè)置于所述容置空間內(nèi)用于加熱所述托盤的加熱器;及設(shè)置于所述容置空間內(nèi)的隔熱結(jié)構(gòu),所述隔熱結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述加熱器和旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)之間。
2.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述隔熱結(jié)構(gòu)為一隔熱板,在所述加熱器和旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)中,所述隔熱板更靠近所述加熱器。
3.如權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述隔熱板與所述筒狀側(cè)壁之間具有一間隙,所述間隙的寬度為0.1mm~10mm。
4.如權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述筒狀側(cè)壁上設(shè)置有排氣孔,且所述排氣孔位于所述隔熱板和加熱器之間區(qū)域的所述筒狀側(cè)壁,所述排氣孔的直徑為0.1mm~1mm。
5.如權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述隔熱板面向所述加熱器的表面為一反射面,所述反射面反射所述加熱器發(fā)出的熱輻射。
6.如權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述隔熱板包括本體和嵌于本體的冷卻管路或冷卻腔,所述冷卻管路或冷卻腔中通有冷卻液體或氣體。
7.如權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,構(gòu)成所述隔熱板的材料為耐熱材料。
8.如權(quán)利要求7中的任一項所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述隔熱板的厚度為1mm~5mm。
9.如權(quán)利要求6所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,還包括一支撐柱,所述支撐柱穿過所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)連接所述加熱器和所述隔熱板,所述支撐柱支撐所述加熱器和所述隔熱板。
10.如權(quán)利要求9所述的反應(yīng)腔室,其特征在于,所述支撐柱上設(shè)置有冷卻液體或冷卻氣體傳輸管道,所述冷卻液體或冷卻氣體傳輸管道與所述隔熱板的冷卻管道或冷卻腔相連。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





