[實用新型]同步定位光刻曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220734975.3
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN202995256U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳濤;孫立寧;潘明強;劉吉柱;王陽俊;陳立國;汝長海;任子武;郭浩;厲茂海;陳國棟;林銳
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

1.一種同步定位光刻曝光裝置，所述裝置包括二維運動平臺、位于所述二維運動平臺正上方用于承載待刻蝕對象的壓電陶瓷運動模塊、以及位于所述壓電陶瓷運動模塊上方的光源發(fā)生裝置，其特征在于，所述二維運動平臺包括控制二維運動平臺沿第一方向運動的第一傳動裝置，所述壓電陶瓷運動模塊包括控制壓電陶瓷運動模塊沿與第一方向相反的第二方向運動的第二傳動裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述第一傳動裝置和第二傳動裝置的傳動速率相等。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述第二傳動裝置包括與壓電陶瓷運動模塊一端相連的脈沖電壓發(fā)生裝置，當壓電陶瓷運動模塊上有電壓時，壓電陶瓷伸長形成瞬時運動，壓電陶瓷運動模塊上無電壓時，壓電陶瓷復(fù)位。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述裝置還包括檢測模塊，用于檢測待刻蝕對象是否運動到待刻蝕位置，若是，則啟動第二傳動裝置，若否，關(guān)閉第二傳動裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述光源發(fā)生裝置包括依次相連的激光源、激光傳輸系統(tǒng)及激光頭。