[實(shí)用新型]粉體分散處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220734624.2 | 申請日： | 2012-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN203108535U | 公開（公告）日： | 2013-08-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王文川;王櫻麗 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海百圖高新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | B01J19/26 | 分類號： | B01J19/26;B01F13/02 |
| 代理公司： | 上海華工專利事務(wù)所 31104 | 代理人： | 應(yīng)云平 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區(qū)*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 分散 處理 裝置 | ||
1.一種粉體分散處理裝置，包括分散器腔體、噴氣組件和分級輪，其特征在于，所述分散器腔體的壁上設(shè)有下料口和噴氣組件，所述噴氣組件設(shè)置于下料口的下方，所述分散器腔體的頂部設(shè)有出料口，所述分級輪設(shè)置于分散器腔體內(nèi)部，且所述分級輪設(shè)置于下料口和出料口之間。
2.如權(quán)利要求1所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述噴氣組件為至少四個均勻布置于分散器腔體的壁上且插入分散器腔體內(nèi)部的噴頭，所述四個噴頭設(shè)置于同一水平位置。
3.如權(quán)利要求2所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述插入分散器腔體內(nèi)部的噴頭的中心線與水平面的夾角大于45度。
4.如權(quán)利要求3所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述噴頭輸出的壓縮氣體為0.01～0.80MPa。
5.如權(quán)利要求1所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述下料口的中軸線到分散器腔體底面的距離大于分散器腔體高度的三分之二。
6.如權(quán)利要求5所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述下料口與下料倉連接。
7.如權(quán)利要求1所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述分級輪將分散器腔體分為兩個隔離的腔室。
8.如權(quán)利要求7所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述分級輪轉(zhuǎn)速在100～3000轉(zhuǎn)/分鐘。
9.如權(quán)利要求1所述的粉體分散處理裝置，其特征在于，所述分散器腔體的壁上還設(shè)置有加藥口，所述加藥口設(shè)置于分級輪和噴氣組件之間。
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