[實用新型]帶調光和調溫裝置的蟲草培養架有效
| 申請號: | 201220731847.3 | 申請日: | 2012-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN203087047U | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發明(設計)人: | 郭湘華;張曉君 | 申請(專利權)人: | 湖南省益康生物高科技有限公司 |
| 主分類號: | A01G1/04 | 分類號: | A01G1/04 |
| 代理公司: | 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115 | 代理人: | 謝德珍 |
| 地址: | 410000 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調光 調溫 裝置 蟲草 培養 | ||
本實用新型涉及蟲草栽培技術領域,具體為一種帶調光和調溫裝置的蟲草培養架。
北蟲草又名蛹蟲草,其蛋白質含量高,氨基酸種類齊全,還有多種微量元素,其所含蟲草活性成分如蟲草酸、蟲草素、蟲草多糖、腺苷等含量達到或高于天然冬蟲夏草,人工培養北蟲草常用的器皿是培養架,它包括相對并排的兩個架體,每個架體上設有若干個用來放置蟲草培養瓶的方格,當蟲草生長到一定時期時,必須通過光照進行加溫,特別在催蕾和子實體生長的兩個階段,因蟲草屬中低溫恒溫型品種,菌絲生長階段適宜栽培溫度16?20℃,高于35℃導致菌絲死亡,低于8℃菌絲停止生長,光照每天照射12h;子實體生長階段適宜18?22℃,每天照射10h。
發菌階段,無光線發菌快;子實體萌發生長階段,要有散光照射每天補光16h,不能有直射光;無光線或太暗光線,只長菌絲,不長子實體,或長出小量子實體無力或畸形。目前常用的蟲草培養架自身不帶調光調溫裝置,當需要升溫或調光時,只能通過培養室的燈光直接照射,導致調溫加熱不方便,不能對單個或小范圍的蟲草進行局部調溫,從而影響蟲草的生長。
本實用新型所解決的技術問題在于提供一種帶調光和調溫裝置的蟲草培養架,以解決上述背景技術中的缺點。
本實用新型所解決的技術問題采用以下技術方案來實現:
帶調光和調溫裝置的蟲草培養架,包括架體、隔熱板、照明燈管、鋼絲繩、定滑輪、平衡棒、隔板、支架、溫度傳感器、控制器,架體包括并排放置的兩個培養架,培養架上設有若干個用來放置蟲草培養瓶的方格,架體之間設置有支架,支架上部固定有隔板,照明燈管固定在隔熱板上,平衡棒重量為隔熱板重量的一半,通過平衡棒調節隔熱板,隔板底部四個角設置四個定滑輪,鋼絲繩穿過定滑輪,其一端與隔熱板連接,另一端與平衡棒連接,通過調節平衡棒上下位置,調節隔熱板的高度,從而調節光照距離,且在架體上設置有溫度傳感器和控制器,照明燈管開關和溫度傳感器接入控制器。
在本實用新型中,架體采用空心鋁合金材料制成,并由空心塑料接頭連接,電源線預埋于架體內。
在本實用新型中,每支照明燈管使用一組紐扣開關控制。
在本實用新型中,照明燈管的強度可調節。
在本實用新型中,隔熱板可避免照明燈管在對單個或小范圍的蟲草進行局部調溫或光照時,對上層培養層產生干擾,導致上層培養器皿底部局部受熱。
在本實用新型中,隔熱板可避免照明燈管在對單個或小范圍的蟲草進行局部調溫或光照時,對上層培養層產生干擾,導致上層培養器皿底部局部受熱。
在本實用新型中,在蟲草進入催蕾和子實體生長的兩個階段時,控制器通過溫度傳感器實時監測室內溫度,通過定滑輪調整照明燈管的強度和光照距離,以促進蟲草的生長。
有益效果:本實用新型采用控制器實時調節培養室室內溫度和光照強度,當需要升溫或調光時,通過控制器和定滑輪調整照明燈管的強度和光照距離,對蟲草進行升溫或調光,操作便捷,能夠對單個或小范圍的蟲草進行局部調溫或光照,從而有利于蟲草的生長。
圖1?為本實用新型較佳實施例的結構示意圖。
為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面結合具體圖示,進一步闡述本實用新型。
參見圖1的帶調光和調溫裝置的蟲草培養架,包括架體1、隔熱板2、照明燈管3、鋼絲繩4、定滑輪、平衡棒5、隔板6、支架7、溫度傳感器、控制器8,架體1包括并排放置的兩個培養架,培養架上設有若干個用來放置蟲草培養瓶的方格,架體1之間設置有支架7,支架7上部固定有隔板6,照明燈管3固定在隔熱板2上,平衡棒5重量為隔熱板2重量的一半,通過平衡棒5調節隔熱板2,隔板6底部四個角設置四個定滑輪,鋼絲繩4穿過定滑輪,其一端與隔熱板2連接,另一端與平衡棒5連接,通過調節平衡棒5上下位置,調節隔熱板2的高度,從而調節光照距離,且在架體1上設置有溫度傳感器和控制器8,照明燈管3開關和溫度傳感器接入控制器8。
在本實施例中,架體1采用空心鋁合金材料制成,并由空心塑料接頭連接,電源線預埋于架體1內。
在本實施例中,每支照明燈管3使用一組紐扣開關控制。
在本實施例中,照明燈管3的強度可調節。
在本實施例中,隔熱板2可避免照明燈管3在對單個或小范圍的蟲草進行局部調溫或光照時,對上層培養層產生干擾,導致上層培養器皿底部局部受熱。
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