[實用新型]一種化學氣相沉積設備及其托盤

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220729105.7
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN203007414U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設計）人: 蘇育家;左然;黃穎泉;黃允文
• 申請（專利權）人: 光達光電設備科技（嘉興）有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

1.一種化學氣相沉積設備的托盤，所述托盤包括襯底承載面和多個限位件，所述多個限位件相互間隔設置于所述襯底承載面上，所述多個限位件用于限定多個襯底在所述承載面上的位置，其特征在于：所述限位件在平行所述襯底承載面的平面的第一截面上呈多邊形或呈具有向內彎曲的邊的多邊形，所述多邊形的角為圓角。

2.根據(jù)權利要求1所述托盤，其特征在于，所述圓角的曲率半徑大于等于1mm。

3.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件第一截面為三角形；所述多個限位件分別設置于呈蜂窩狀圖案拐角點的位置。

4.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件相對所述襯底承載面的高度不小于所述襯底厚度。

5.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件垂直于所述襯底承載面所在平面的第二截面為梯形或三角形。

6.根據(jù)權利要求5所述托盤，其特征在于，所述限位件為一棱臺或棱錐。

7.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件具有插接部，且所述托盤的襯底承載面上具有與所述插接件對應的插孔，使得所述限位件在所述托盤上任意插拔。

8.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件的材質與所述襯底相同或與所述托盤的材質相同。

9.根據(jù)權利要求1或2所述托盤，其特征在于，所述限位件的材質為藍寶石、碳化硅、氧化鋅、硅或鍺化硅中的一種。

10.一種化學氣相沉積設備，包括腔體和設置在所述頂部的噴淋頭和設置在所述腔體底部的托盤，其特征在于：所述托盤為權利要求1~9任意一項所述的托盤。