[實用新型]浮雕圖案印刷裝置

有效

• 申請號: 201220727002.7
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN203004507U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 李飚;諸榮建
• 申請（專利權）人: 汕頭市金鑫包裝科技有限公司
• 主分類號: B41F19/00
• 分類號: B41F19/00;B41F23/04;B41J2/01;B41J3/44;B41J11/00
• 代理公司: 汕頭市高科專利事務所 44103
• 代理人: 黃河長

技術領域

本實用新型屬于印刷設備的技術領域，具體涉及一種利用磁場形成浮雕圖案的印刷裝置。

背景技術

在一些高檔產品包裝或高級防偽標識中，人們會使用感磁油墨和磁性模塊的結合以產生立體感的圖案，其中感磁油墨中含有能夠接受磁場作用的微小磁性顆粒，而磁性模塊則具有磁場并制作成為一定圖文形狀，當承印物印刷上感磁油墨并接近磁性模塊后，感磁油墨中的磁性顆粒將按照磁性模塊磁力線的方向排列，進而產生不同的光折射，形成視覺差異，使承印物表面的圖案產生立體效果，而且這種立體視覺效果可根據磁性模塊的形狀、磁場分布規律進行事先設計，行業內又稱為浮雕圖案或立體圖案。

現有技術中（例如CN202071524專利文獻中），磁性模塊（該文獻中具體為磁性輥筒）固定安裝在承印物傳送機構（如傳送帶）旁邊，承印物在印刷機構印上感磁油墨后，由承印物傳送機構帶動到磁性模塊旁邊，使承印物表面的感磁油墨接受磁性模塊的磁力線作用，然后再由承印物傳送機構帶動而離開磁性模塊，這樣會產生以下問題：如果承印物在經過磁性模塊旁邊時沒有停頓或者停頓的時間不夠長，承印物的感磁油墨尚未干燥固化就已逐漸離開磁性模塊，在與磁性模塊發生相對運動過程中，如果以承印物為參照物，其周圍的磁場不斷變化，使得磁性顆粒的排列不斷變化而不穩定，最終導致浮雕圖案模糊不清晰，立體效果不明顯；反之，如果要等到承印物干燥固化后才離開磁性模塊，則需要等待較長一段時間，生產速度慢，成本高，不易推廣。同樣的，在承印物接近磁性模塊之前，剛印刷上感磁油墨時，一開始其周圍并沒有磁場（磁力線），后來才逐步接近到磁性模塊，因此在浮雕圖案形成過程中，如果以承印物為參照物，則其周圍的磁場也是不穩定的、不斷變化的，這樣也會造成浮雕圖案模糊不清晰。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服上述缺點而提供一種浮雕圖案印刷裝置，它可以使浮雕圖案清晰明麗，且生產速度快。

其目的可以按以下方案實現：該浮雕圖案印刷裝置包括磁性模塊、印刷機構和干燥固化機構，所述印刷機構為絲印機構或噴印機構；其特征在于，還設有水平循環轉動的水平循環運動機構，所述磁性模塊固定在水平循環運動機構上并隨同該機構水平循環轉動；所述磁性模塊上面形成有可以放置承印物的承載面；磁性模塊上方的承印面的轉動線路經過絲印機構的工作面或噴印機構的噴印區域，所述磁性模塊的水平循環轉動線路也穿過干燥固化機構中。所謂磁性模塊上方的承印面，是指當承載面上面放置承印物后，承印物的上表面所在位置；當承印物很薄（例如紙張或塑料膜）時，“磁性模塊上方的承印面”基本相當于磁性模塊的承載面；當承印物的厚度不能忽略不計時，“磁性模塊上方的承印面”比磁性模塊的承載面高出一定數值，該數值相當于承印物的厚度。

所述水平循環運動機構可以為水平轉盤，水平轉盤設有豎向轉軸。

所述水平循環運動機構也可以為水平循環鏈帶，所述磁性模塊安裝在水平循環導軌上。

所述干燥固化機構可以為UV固化機構。

所述干燥固化機構也可以為紅外烘箱。

所述磁性模塊上面設有墊板；所述可以放置承印物的承載面為墊板的上表面。

所述印刷機構為絲印機構，該絲印機構設有絲網版，該絲網版設有一根水平轉軸并可繞該水平轉軸上下轉動；當絲網版轉動至水平狀態時，絲網版所在平面與磁性模塊的上方承印面的豎向位置平齊。

本實用新型具有以下優點和效果：?

1、本實用新型可以將承印物放置在磁性模塊的承載面上面，并利用絲印機構或噴印機構在承印物表面印上感磁油墨，使感磁油墨從一開始粘附到承印物表面的第一時間開始就受到穩定的磁場作用，而且在感磁油墨干燥固化之前，承印物和磁性模塊可以同步轉動進入干燥固化機構?，承印物一直保持與磁性模塊相對不動，即承印物周圍的磁場固定不變，因此感磁油墨在印刷之后、干燥固化之前，感磁油墨中的磁性顆粒排列一直非常穩定，使立體浮雕圖案非常清晰，浮雕效果非常明顯，當承印物隨同磁性模塊運行經過干燥固化機構后，浮雕圖案就已經穩定成形。而且本實用新型在保持承印物與磁性模塊固定不動的同時，還可以將剛印刷的承印物迅速轉移到干燥固化機構中進行強制干燥固化，因此干燥固化時間短，生產速度高，降低成本。

附圖說明

圖1是本實用新型第一種具體實施例的俯視結構及工作方式示意圖。

圖2是圖1中A-A剖面結構示意圖。

圖3是圖1中B-B剖面結構示意圖。

圖4是本實用新型第二種具體實施例的俯視結構示意圖。

圖5是圖4中C-C剖面結構示意圖。

圖6是圖5所示結構的另一種使用狀態示意圖。

具體實施方式