[實用新型]電路板的化學鍍銅設備有效
| 申請號: | 201220726314.6 | 申請日: | 2012-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN203034098U | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 李建洋 | 申請(專利權)人: | 羽田電子科技(太倉)有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/40 | 分類號: | C23C18/40;C23C18/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215400 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電路板 化學 鍍銅 設備 | ||
【權利要求書】:
1.電路板的化學鍍銅設備,其特征在于:包括防鍍油漆噴涂裝置、濕潤劑浸泡除油裝置、一次水洗裝置、化銅裝置、護銅裝置、二次水洗裝置和烘干裝置;所述防鍍油漆噴涂裝置用于對電路板進行噴漆,所述濕潤劑浸泡除油裝置用于對噴漆后的電路板進行除油,所述一次水洗裝置用于對除油后的電路板進行一次水洗,所述化銅裝置用于對一次水洗后的電路板進行化銅,所述化銅裝置用于對化銅后的電路板進行護銅,所述二次水洗裝置用于對護銅后的電路板進行二次水洗,所述烘干裝置用于對二次水洗后的產品進行烘干。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





