[實用新型]真空鍍膜機有效
| 申請號: | 201220724639.0 | 申請日: | 2012-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN203270025U | 公開(公告)日: | 2013-11-06 |
| 發明(設計)人: | 黃玉春 | 申請(專利權)人: | 黃玉春 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 441604 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 | ||
1.一種真空鍍膜機,包括:至少一個鍍膜腔以及至少一個過渡腔,其特征在于:所述鍍膜腔和所述過渡腔之間通過真空隔離閥連通。?
2.如權利要求1所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述一個鍍膜腔的兩側分別通過真空隔離閥連通有第一過渡腔和第二過渡腔。?
3.如權利要求1或2所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述鍍膜腔包括至少一個濺射源。?
4.如權利要求3所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述的濺射源包含磁控濺射源或電弧濺射源。?
5.如權利要求1或2所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述鍍膜腔和所述過渡腔內均至少設置有一個工件架。?
6.如權利要求5所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述工件架是下承載方式絕緣固定在一塊可移動的托板上。?
7.如權利要求6所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述托板設置有可在相鄰的所述鍍膜腔和所述過渡腔的腔體間移動的結構。?
8.如權利要求1或2所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述鍍膜腔和所述過渡腔的腔體內設置有可上下移動并旋轉的頂桿。?
9.如權利要求8所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述頂桿與所述腔體絕緣。?
10.如權利要求8所述的一種真空鍍膜機,其特征在于,所述頂桿對工件架進行定位并帶動工件架旋轉。?
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