[實用新型]一種用于觸摸屏的ITO膜

有效

• 申請號: 201220718827.2
• 申請日: 2012-12-24
• 公開（公告）號: CN203602703U
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 沈國陽
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光科技有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/35
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 施秀瑾

技術領域

本實用新型涉及一種用于觸摸屏的ITO膜，屬于電子屏幕的技術領域。

背景技術

ITO（Indium?Tin?Oxides，銦錫金屬氧化物），作為一種典型的N型氧化物半導體被廣泛地運用在手機、MP3、MP4、數碼相機等領域。

制備ITO鍍膜的方法有很多，一般為ITO粉體通過氣相沉積法將ITO沉積到玻璃、金屬等基體表面，形成一薄膜層。?

發明內容

為了克服上述缺陷，本實用新型的目的在于提供一種有利于工業化、連續化生產的需要的用于觸摸屏的ITO膜。

為了達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案：一種用于觸摸屏的ITO膜，該膜包括透明基體和鍍覆在所述透明基體上的膜層，所述膜層包括自透明基體上表面依次向上排列的底層、中間層和第一面層。

所述底層、中間層和第一面層均為單層結構。

所述透明基體的厚度為50-188μm，所述透明基體為聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚亞胺。

所述底層為SiO₂或Al₂O₃；所述中間層為Si₃N₄或Nb₂O₅；所述第一面層為ITO層。

本實用新型的有益效果：

本實用新型率先采用真空磁控濺射法制備柔性ITO薄膜，通過磁控濺射將ITO薄膜沉積在柔性基體上，再通過貼合等技術至基體上。由此方法制備的ITO薄膜不僅附著力好，性能優異，而且有利于工業化連續生產，大大提高了生產效率，為工業化生產的首選。?

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型進行詳細說明：

一種用于觸摸屏的ITO膜，該膜包括透明基體1和鍍覆在所述透明基體上的膜層，所述膜層包括自透明基體1上表面依次向上排列的底層2、中間層3和第一面層4。

所述底層2、中間層3和第一面層4均為單層結構。

所述透明基體1的厚度為50-188μm，所述透明基體1為聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚亞胺。

所述底層2為SiO₂或Al₂O₃；所述中間層3為Si₃N₄或Nb₂O₅；所述第一面層4為ITO層。