[實用新型]基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置有效

申請號：	201220718469.5	申請日：	2012-12-24
公開（公告）號：	CN203062085U	公開（公告）日：	2013-07-17
發明（設計）人：	吳周令;陳堅;吳令奇	申請（專利權）人：	合肥知常光電科技有限公司
主分類號：	B23K26/00	分類號：	B23K26/00;B23K26/06;B23K26/42
代理公司：	合肥天明專利事務所 34115	代理人：	金凱
地址：	230031 安徽省合肥市高新***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	基于全反射原理光學元件激光預處理裝置
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【權利要求書】：

1.基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，包括有激光光源，其特征在于：還包括有依次設置于激光光源的后端和透明光學元件一側面之間的激光能量調整控制裝置、激光光束整形處理裝置、激光光束分光楔板光束角度調整裝置，激光光束分光楔板的第一反射輸出端后設置有CCD成像裝置，其第二反射輸出端后設置有分光裝置，分光裝置的兩分光輸出端后分別設置有光電探測器和激光能量測量裝置。

2.根據權利要求1所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，其特征在于：所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置還包括有相對透明光學元件另一側面設置的激光光束吸收裝置。

3.根據權利要求1所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，其特征在于：所述的光束角度調整裝置選用激光高反鏡，所述的激光高反鏡固定于激光高反鏡裝夾調整裝置上。

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