[實用新型]發(fā)光二極管晶圓的研磨構(gòu)造

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220716150.9
• 申請日: 2012-12-21
• 公開（公告）號: CN203045495U
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳孟端
• 申請（專利權(quán)）人: 正恩科技有限公司
• 主分類號: B24B37/02
• 分類號: B24B37/02;B24B55/06
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;李靜

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及發(fā)光二極管晶圓，尤其涉及發(fā)光二極管晶圓的研磨裝置。

背景技術(shù)

請參閱圖1與圖2所示，發(fā)光二極管晶圓1在磊晶制造完成之后，必須使用研磨裝置進(jìn)行晶圓研磨作業(yè)，而研磨裝置主要包含一研磨墊2與設(shè)置于該研磨墊2的磨料齒3，其通過該磨料齒3研磨該發(fā)光二極管晶圓1上不需要的堆疊層，并減少厚度，而利于后續(xù)的晶圓切割、封裝等作業(yè)的進(jìn)行。

已知為通過該磨料齒3直接研磨該發(fā)光二極管晶圓1表面不要的部分，因此在研磨的過程中，會產(chǎn)生相當(dāng)數(shù)量的細(xì)屑，因此常常需要停機處理，其會影響產(chǎn)量。

請再參閱圖3所示，已知該研磨墊2為裝設(shè)于一轉(zhuǎn)動軸4上，而發(fā)光二極管晶圓1則集合多個，并分別利用固定臘（圖未示）黏著固定于一工作臺5上，固定臘的作用在于固定發(fā)光二極管晶圓1，以便利研磨作業(yè)的進(jìn)行，且已知發(fā)光二極管晶圓1在研磨作業(yè)時，為使該研磨墊2的磨料齒3與該發(fā)光二極管晶圓1重疊，并使該轉(zhuǎn)動軸4與該工作臺5同向轉(zhuǎn)動，以利用磨料齒3對發(fā)光二極管晶圓1進(jìn)行研磨。

然而，已知磨料齒3與發(fā)光二極管晶圓1的相對位移方向，該磨料齒3研磨該發(fā)光二極管晶圓1的部位會集中于磨料齒3的側(cè)邊位置6，也即該磨料齒3與該發(fā)光二極管晶圓1的接觸面積不大，因此在研磨時，該磨料齒3會對該發(fā)光二極管晶圓1產(chǎn)生相當(dāng)?shù)臎_擊力道，而造成該發(fā)光二極管晶圓1可能會產(chǎn)生龜裂的問題，而造成制造良率低落。

實用新型內(nèi)容

于是，本實用新型的主要目的在于披露一種發(fā)光二極管晶圓的研磨構(gòu)造，其用于研磨發(fā)光二極管晶圓時，可增加排屑效果，并降低發(fā)光二極管晶圓的受力，而增加產(chǎn)量與良率。

基于上述目的，本實用新型為一種發(fā)光二極管晶圓的研磨構(gòu)造，其包含一研磨板與多個磨料齒，其中該研磨板為圓板狀，且該多個磨料齒等距且以放射狀排列于該研磨板的邊緣區(qū)域，且該多個磨料齒呈渦旋狀。

進(jìn)一步地，研磨板具有多個凹槽，而磨料齒鑲?cè)攵鄠€凹槽內(nèi)并浮凸于研磨板上。

進(jìn)一步地，研磨板在多個磨料齒兩兩之間分別設(shè)置有一進(jìn)水孔。

進(jìn)一步地，進(jìn)水孔遠(yuǎn)離研磨板的邊緣而設(shè)置。

進(jìn)一步地，研磨板具有一中心開口以及與環(huán)繞中心開口設(shè)置的多個鎖固孔。

據(jù)此，本實用新型用于研磨該發(fā)光二極管晶圓時，放射狀排列且渦旋狀的磨料齒在轉(zhuǎn)動時，會產(chǎn)生渦旋的流動效果，可有效將細(xì)屑甩出，因而沒有停機排屑的問題。又渦旋狀的磨料齒在轉(zhuǎn)動研磨接觸該發(fā)光二極管晶圓的厚度時，可增加與該發(fā)光二極管晶圓的接觸面積，因而可以降低對該發(fā)光二極管晶圓的沖擊性并減少研磨時的沖擊力道。因此本實用新型可以節(jié)省排屑的停機時間，并避免該發(fā)光二極管晶圓于研磨時，因受力過大而產(chǎn)生龜裂，其可增加產(chǎn)量與良率，滿足使用上的需求。

附圖說明

圖1為已知發(fā)光二極管晶圓結(jié)構(gòu)圖。

圖2為已知研磨板示意圖。

圖3為已知研磨板使用示意圖。

圖4為本實用新型結(jié)構(gòu)圖。

圖5為本實用新型使用示意圖。

具體實施方式

有關(guān)本實用新型的詳細(xì)說明及技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)就配合圖式說明如下：

請參閱圖4所示，本實用新型為一種發(fā)光二極管晶圓的研磨構(gòu)造，其包含一研磨板10與多個磨料齒20，其中該研磨板10為圓板狀，該多個磨料齒20等距且呈放射狀的排列于該研磨板10的邊緣區(qū)域，且該多個磨料齒20呈渦旋狀。

又該研磨板10可以具有多個凹槽11，而該磨料齒20鑲?cè)朐摱鄠€凹槽11并浮凸于該研磨板10上，且該研磨板10于該多個磨料齒20兩兩之間各設(shè)置一進(jìn)水孔12，且該進(jìn)水孔12可以遠(yuǎn)離該研磨板10的邊緣設(shè)置，該進(jìn)水孔12供導(dǎo)入研磨液，以幫助冷卻并增加排屑效果。

請再參閱圖5所示，該研磨板10可以具有一中心開口13與環(huán)繞該中心開口13設(shè)置的多個鎖固孔14，該中心開口13與多個鎖固孔14為供與一轉(zhuǎn)動軸30螺鎖固定使用，以讓該研磨板10固定于該轉(zhuǎn)動軸30上。

而發(fā)光二極管晶圓40則集合多個，并分別固定于一工作臺50，其可以如傳統(tǒng)一樣，使用臘黏著固定，或者是先黏著于一乘載片60上，再被吸附固定于該工作臺50上。又該工作臺50與該轉(zhuǎn)動軸30于研磨時的相對位置為讓該發(fā)光二極管晶圓40與該磨料齒20重疊接觸，并該轉(zhuǎn)動軸30與該工作臺50為順時針同向轉(zhuǎn)動，因此在高速轉(zhuǎn)動時，該磨料齒20可滑過每一個發(fā)光二極管晶圓40，以進(jìn)行研磨。

如上所述，本實用新型放射狀排列且渦旋狀的磨料齒在轉(zhuǎn)動時，會產(chǎn)生渦旋的流動效果，因而可有效將細(xì)屑甩出，又渦旋狀的磨料齒在轉(zhuǎn)動研磨接觸該發(fā)光二極管晶圓的厚度時，可增加與該發(fā)光二極管晶圓的接觸面積，因而可以有效降低對該發(fā)光二極管晶圓的沖擊性并減少研磨時的沖擊力道。故本實用新型可以節(jié)省排屑的停機時間，并避免該發(fā)光二極管晶圓于研磨時，因受力過大而產(chǎn)生龜裂，其可增加產(chǎn)量與良率，滿足使用上的需求。