[實用新型]一種涂膜槽

有效

• 申請號: 201220711617.0
• 申請日: 2012-12-19
• 公開（公告）號: CN203002592U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 李恕貴;王連軍;王穎;李恕廣;杜國棟;栗廣勇
• 申請（專利權）人: 大連歐科膜技術工程有限公司
• 主分類號: B05C11/11
• 分類號: B05C11/11;B05C11/10
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 趙淑梅;李馨

技術領域

本實用新型涉及一種凹槽裝置，特別涉及一種用于制膜工藝的涂膜槽，屬于制膜領域。

背景技術

目前采用浸漬涂層技術制備高分子復合膜涂層時，需要先將涂膜液置于涂膜機的方形或倒梯形凹面的涂膜槽中。復合膜底膜在滾輪的驅動和引導下浸入涂膜槽，浸漬一定時間后再由滾輪導出。涂膜液在底膜表面形成一薄層涂層，固化后便成為復合膜，如圖1所示。

涂膜液中溶劑具有一定的揮發性，因此涂膜液濃度會隨時間發生變化，影響涂層效果，且揮發性溶劑還具有易燃易爆性，存在安全隱患。因此，減少涂膜液溶劑的揮發對控制產品質量和安全生產起著非常重要的作用。

發明內容

為減少涂膜液溶劑揮發，提高涂膜質量，保障安全生產，本實用新型提供了一種涂膜槽。

一種涂膜槽，包括槽體，所述槽體上表面凹陷形成橫截面為圓弧形的凹面，所述圓弧形凹面與相配使用的涂膜滾輪的軸心同心，其弧度為π/2~π。

本實用新型所述涂膜槽為軸線方向為直線的凹槽結構，所述涂膜槽上表面的橫截面為圓弧形凹面。在進行涂膜時所述涂膜槽的軸線方向與用于涂膜的涂膜滾輪的軸線保持一致。

本實用新型所述槽體上表面凹陷形成圓弧形凹面包括上表面全部或部分凹陷成圓弧形凹面。當上表面全部凹陷時，整個上表面凹陷形成圓弧形凹面；當上表面部分凹陷時，整個上表面則形成弓形凹面。

有機溶劑的揮發量遵循馬扎克（B.T.M）公式：G=(5.38+4.1u)P_H·F·M^1/2（u—風速；P_H—25℃時飽和蒸汽壓；F—揮發面積；M—分子量）。相同條件下，涂膜液中有機溶劑的揮發量與揮發面積成正比。圖2為本實用新型提供涂膜槽與梯形涂膜槽的對比示意圖。如圖2所述，當涂膜槽軸向長度相同，將梯形凹面改進為圓弧形凹面時，直觀可見L₁<L，則涂膜液揮發界面面積F₁<F，因此弧形凹面的涂膜槽的溶劑揮發量降低，對涂膜液的濃度變化影響較小，更有利于涂膜質量穩定。涂膜滾輪與涂膜槽間形成的截面積S₁<S，即在保證相同涂膜面積的條件下，弧形凹面槽所需涂膜液體積要明顯小于梯形凹面槽，從而節省涂膜液原料成本。圖2中亦可看出，兩線段長度之和a+b要大于所夾弧長c，即弧形周長小于梯形周長，意味著弧形凹面槽所用材料面積較小，從而節約加工制造成本。

本實用新型所述涂膜槽優選所述涂膜槽還包括設于涂膜槽下方恒溫加熱裝置，本實用新型所述的恒溫加熱裝置為本領域的現有技術，本領域熟練技術人員可以根據需要控制的涂膜液的溫度范圍選取合適的恒溫裝置，本實用新型優選所述恒溫加熱裝置優選為恒溫水浴裝置。

本實用新型所述恒溫加熱裝置包括與涂膜槽各自獨立的恒溫加熱裝置，也包括與涂膜槽形成一體結構的恒溫加熱裝置。本實用新型優選所述恒溫加熱裝置與涂膜槽形成一體結構。

本實用新型一個優選的技術方案為：

一種涂膜槽，包括槽體，所述槽體上表面凹陷形成橫截面為圓弧形的凹面，所述圓弧形凹面與相配使用的涂膜滾輪的軸心同心，其弧度為π/2~π；所述槽體的上表面與槽體的底面和側面形成中空腔體，所述腔體內填充加熱介質并設有恒溫控制裝置。

上述涂膜槽優選所述加熱介質為水。

上述涂膜槽優選所述恒溫控制裝置包括溫度傳感器和與其相連的加熱器。

本實用新型另一個優選的技術方案為：

一種涂膜槽，包括槽體，所述槽體上表面凹陷形成橫截面為圓弧形的凹面，所述圓弧形凹面與相配使用的涂膜滾輪的軸心同心，其弧度為π/2~π；所述槽體的上表面與槽體的底面和側面形成中空腔體，所述腔體內填充加熱介質，所述腔體的側面設有進水口和出水口，所述進水口和出水口依次連接循環泵和恒溫加熱器。

上述涂膜槽優選所述加熱介質為水。

本實用新型的有益效果是：本實用新型所提供涂膜槽可減小涂膜液中溶劑的揮發量，降低溶劑揮發對涂膜液濃度的影響，配合恒溫循環水浴系統，可有效提高涂膜質量的穩定性和可靠性，降低產品生產的安全風險。此外，可節約加工原材料和涂膜液用量，降低涂膜工藝的生產成本。

附圖說明

圖1是涂膜工藝及梯形涂膜槽示意圖；

圖2為本實用新型提供涂膜槽與梯形涂膜槽的對比示意圖；

圖3是本實用新型實施例1所述涂膜槽的結構示意圖；

附圖標記如下：圓弧形凹面1、進水口2、出水口3、中空腔體4、梯形涂膜槽5、涂膜液6、滾輪7、膜8。

具體實施方式