[實用新型]二維無V型槽光纖陣列裝置

有效

• 申請號: 201220706083.2
• 申請日: 2012-12-19
• 公開（公告）號: CN203101677U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 黃華;李強;余富榮;胡家泉;李朝陽;陳貴明
• 申請（專利權）人: 四川飛陽科技有限公司
• 主分類號: G02B6/08
• 分類號: G02B6/08
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 陳振

本實用新型涉及光通訊器件及光學成像領域，特別是涉及一種二維無V型槽光纖陣列裝置。

眾多光纖按一定的順序將端面排列成需要的幾何形狀，組成光纖陣列(Fiber?Array,FA)裝置。陣列兩端的光纖排列位置一一對應，陣列中一條光纖相當于一個像素，在光纖陣列一端的光圖像就會在陣列的另一端重現。醫學上各種光纖內窺鏡就是以這個原理制作的。光纖陣列裝置主要用來直接傳送圖像，應用于平面光波導，陣列波導光纖，有源/無源陣列光纖器件，微機電系統以及多通道光學模塊。

現有技術中，光纖陣列裝置都是利用V形槽（即V槽，V?Groove)把一條光纖、一束光纖或一條光纖帶安裝在陣列基片上，除去光纖涂層的裸露光纖被置于該V形槽中，被加壓器部件所加壓并由粘合劑所粘合。在前端部，該光纖被精確定位，以連接到PLC（平面光波導）上，不同光纖的接合部被安裝在陣列基片上。利用此方法制造的光纖陣列裝置主要有兩種類型，單層光纖陣列裝置和雙層及多層光纖陣列裝置。

隨著科技的發展，傳統的單層光纖陣列裝置的成像效果和分辨率已經難以滿足光學成像技術的要求。而目前的二維光纖陣列裝置中均利用設置在基板上的V型槽，采用光纖層逐層減少的方法，最終形成梯形或三角形光纖陣列，不能有效利用空間體積，從而影響其在光束整形以及平面光波導方面的應用。而且，設置在基板上的V型槽的價格比較昂貴，批量生產成本比較高。

基于此，有必要針對現有技術的缺陷和不足，提供一種二維無V型槽光纖陣列裝置，其在有效利用光纖陣列空間體積，提高光纖陣列密度的同時，降低二維光纖陣列的制作成本，并且形成菱形和近長方形光纖陣列。

為實現本實用新型目的而提供的二維無V型槽光纖陣列裝置，包括基板、蓋板和M×N根光纖，其中：N為光纖層數，M為每層光纖陣列中的光纖數量，相鄰兩層光纖陣列中的光纖數量相等；

所述基板與所述蓋板均為平板；

第0層光纖陣列作為底層固定在所述基板上；第S層光纖陣列中的光纖固定在第S?1層光纖陣列中的相鄰光纖之間形成的凹槽內，與所述S?1層光纖陣列中的光纖錯位相切；其中，S=1,2…N；

所述蓋板固定在所述第N層光纖陣列上。

在其中一個實施例中，所述基板的上表面的棱角均設置為45度至60度倒角。

在其中一個實施例中，所述基板的上表面的棱角均設置為45度至60度倒角。

在其中一個實施例中，所述相鄰兩層光纖陣列之間的錯位距離為其中X為正整數，D為光纖直徑，且

在其中一個實施例中，所述N層光纖陣列中分別設置有不通光光纖陣列。

本實用新型的有益效果：本實用新型提供的二維無V型槽光纖陣列裝置，未使用帶V型槽的基板，降低了二維光纖陣列的批量生產的成本，有效利用了光纖陣列的空間體積，提高了光纖陣列密度；同時，形成的菱形或者近長方形光纖陣列，在通光后將點光源轉換成菱形或者近長方形面光源，在光束整形技術和平面光波導技術中有著非常重要的應用。

圖1為本實用新型的二維無V型槽光纖陣列裝置的一個實施例的示意圖；

圖2為本實用新型的二維無V型槽光纖陣列裝置的另一個實施例的示意圖。

下面結合說明書附圖，對本實用新型實施例中的二維無V型槽光纖陣列裝置的具體實施方式進行說明。

本實用新型實施例提供的二維無V型槽光纖陣列裝置，如圖1至圖2所示，包括基板1、蓋板3和M×N根光纖2，其中：N為光纖層數，M為每層光纖陣列中的光纖數量，相鄰兩層光纖陣列中的光纖數量相等；

所述基板1與所述蓋板3均采用普通平板石英玻璃，且未設置V型槽結構，大大減少了制作成本；

第0層光纖陣列作為底層固定在所述基板上；第S層光纖陣列中的光纖固定在第S?1層光纖陣列中的相鄰光纖之間形成的凹槽內，與所述S?1層光纖陣列中的光纖錯位相切；其中，S=1,2…N；

舉例說明：

舉例說明：

第0層光纖陣列作為底層光纖陣列固定在所述基板上，第1層光纖陣列中的光纖固定在所述底層光纖陣列中的相鄰光纖之間形成的凹槽內，與所述底層光纖陣列中的光纖錯位相切；

從第1層光纖陣列開始，相鄰兩層光纖陣列均按照上述方式依次錯位相切固定，重復至第N層光纖陣列；

所述蓋板固定在所述第N層光纖陣列上，形成菱形或者近長方形光纖陣列，有效利用了光纖陣列的空間體積，提高了光纖陣列密度；且形成的菱形或者近長方形光纖陣列在光束整形技術和平面光波導技術中有非常重要的應用。