[實用新型]一種適用于dummy-trench功率器件的版圖

有效

• 申請號: 201220702762.2
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN202977425U
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 褚為利;朱陽軍;胡愛斌;趙佳;喻巧群;田曉麗
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所;江蘇物聯網研究發展中心;江蘇中科君芯科技有限公司
• 主分類號: H01L29/423
• 分類號: H01L29/423;H01L29/739;H01L29/78
• 代理公司: 北京市德權律師事務所 11302
• 代理人: 劉麗君

1.一種適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，包括：dummy柵極結構刻蝕窗口、trench柵極結構刻蝕窗口、源極金屬刻蝕窗口、dummy柵極金屬刻蝕窗口、trench柵極金屬刻蝕窗口、源極金屬接線板刻蝕窗口、dummy柵極接線板刻蝕窗口及trench柵極接線板刻蝕窗口；所述trench柵極結構刻蝕窗口被所述dummy柵極結構刻蝕窗口隔開；所述dummy柵極金屬刻蝕窗口與所述源極金屬刻蝕窗口間隔距離，所述trench柵極金屬刻蝕窗口與源極金屬刻蝕窗口間隔距離；dummy柵極金屬刻蝕窗口覆蓋dummy柵極結構刻蝕窗口的一端，trench柵極金屬刻蝕窗口覆蓋trench柵極結構刻蝕窗口的一端；源極金屬刻蝕窗口覆蓋未被dummy柵極金屬刻蝕窗口和trench柵極金屬刻蝕窗口所覆蓋的區域，且與dummy柵極金屬刻蝕窗口和trench柵極金屬刻蝕窗口間隔距離；所述dummy柵極接線板刻蝕窗口覆蓋dummy柵極金屬刻蝕窗口，所述trench柵極接線板刻蝕窗口覆蓋trench柵極金屬刻蝕窗口，所述源極金屬接線板刻蝕窗口覆蓋源極金屬刻蝕窗口。

2.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述dummy柵極金屬刻蝕窗口的投射面與所述dummy柵極結構刻蝕窗口的一端垂直。

3.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述trench柵極金屬刻蝕窗口的投射面與所述trench柵極結構刻蝕窗口的一端垂直。

4.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述dummy柵極金屬刻蝕窗口的寬度在10-50μm之間。

5.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述trench柵極金屬刻蝕窗口的寬度在10-50μm之間。

6.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述源極金屬刻蝕窗口和所述dummy柵極金屬刻蝕窗口之間的間隔距離在5-20μm之間。

7.如權利要求1所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述源極金屬刻蝕窗口和所述trench柵極金屬刻蝕窗口之間的間隔距離在5-20μm之間。

8.如權利要求1-7中任意一項所述的適用于dummy-trench功率器件的版圖，其特征在于，所述trench柵極結構刻蝕窗口和所述dummy柵極結構刻蝕窗口呈交錯分布。