[實用新型]一種用于反應腔的基板加熱及傳輸裝置有效
| 申請號: | 201220695840.0 | 申請日: | 2012-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN202936479U | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 彭侃;吳國發 | 申請(專利權)人: | 漢能新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 101407 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 反應 加熱 傳輸 裝置 | ||
1.一種用于反應腔的基板加熱及傳輸裝置,其特征在于:包括安裝在反應腔(1)側壁上的滾輪傳動裝置和設置在反應腔(1)底部的升降支撐裝置,其中,所述滾輪傳動裝置包括僅支持轉動的磁流體密封傳動裝置(2)及受其制動的傳輸滾輪(3),所述傳輸滾輪(3)通過傳輸墊板(4)運輸基板;所述升降支撐裝置包括加熱板托架(5)及控制其運動的升降氣缸(6),所述加熱板托架(5)上設有加熱板(7)。
2.根據權利要求1所述的用于反應腔的基板加熱及傳輸裝置,其特征在于:所述升降氣缸(6)的推桿外套設有金屬波紋管(8)。
3.根據權利要求1所述的用于反應腔的基板加熱及傳輸裝置,其特征在于:所述傳輸墊板(4)與加熱板(7)為面-面接觸。
4.根據權利要求1所述的用于反應腔的基板加熱及傳輸裝置,其特征在于:所述傳輸墊板(4)的面積為單塊基板面積的兩倍以上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于漢能新材料科技有限公司,未經漢能新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220695840.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種新型法蘭組件
- 下一篇:封閉花蘭的制造組裝工藝
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





