[實用新型]帶二維碼標識的真空滅弧室有效
| 申請號： | 201220680505.3 | 申請日： | 2012-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN202977294U | 公開（公告）日： | 2013-06-05 |
| 發明（設計）人： | 王雷波;任鵬魁 | 申請（專利權）人： | 陜西寶光真空電器股份有限公司 |
| 主分類號： | H01H33/664 | 分類號： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 西安弘理專利事務所 61214 | 代理人： | 羅笛 |
| 地址： | 721006 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 二維碼 標識 真空 滅弧室 | ||
【權利要求書】：
1.一種帶二維碼標識的真空滅弧室，其特征在于，包括真空滅弧室，真空滅弧室的真空滅弧室外露表面（1）通過激光器標刻二維碼標識（2）。
2.根據權利要求1所述的帶二維碼標識的真空滅弧室，其特征在于，所述二維碼標識（2）的形狀為矩形、正方形、圓形。
3.根據權利要求1所述的帶二維碼標識的真空滅弧室，其特征在于，在所述真空滅弧室外露表面（1）的圓周面上標刻二維碼標識（2）。
4.根據權利要求1所述的帶二維碼標識的真空滅弧室，其特征在于，在所述真空滅弧室外露表面（1）的端平面上標刻二維碼標識（2）。
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