[實用新型]一種垂直工件電化學沉積設備

有效

• 申請號: 201220675449.4
• 申請日: 2012-12-10
• 公開（公告）號: CN202954111U
• 公開（公告）日: 2013-05-29
• 發明（設計）人: 郭偉民;黃迎春;廖成;李穎鑫;鄭興平;李世楚;梅軍;劉煥明
• 申請（專利權）人: 中物院成都科學技術發展中心
• 主分類號: C25D5/08
• 分類號: C25D5/08;C25D17/00
• 代理公司: 四川力久律師事務所 51221
• 代理人: 王蕓;劉雪蓮

1.一種垂直工件電化學沉積設備，包括電化學沉積槽以及設置于沉積槽內用于藥液流動的至少一組管道，其特征在于，所述每組管道包括中心線相互平行的吸管和噴管，所述吸管和噴管上開有孔洞。

2.根據權利要求1所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述吸管與噴管垂直于水平面。

3.根據權利要求2所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述每組管道包括一根吸管和一根噴管。

4.根據權利要求3所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述吸管與噴管上的孔洞為一條或多條狹窄的長條孔。

5.根據權利要求3所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述吸管的中心線與噴管的中心線之間的距離小于兩管直徑總和的四倍。

6.根據權利要求3所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述吸管直徑為5mm～80mm；所述噴管直徑為5mm～80mm。

7.根據權利要求3所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述吸管橫切面中心點到孔洞的方向與吸管橫切面中心點到工件表面并垂直于工件表面的方向有0～75度的角度；所述噴管橫切面中心點到孔洞的方向與噴管橫切面中心點到吸管橫切面中心點的方向有15～180度的角度。

8.根據權利要求3至7項中任意一項所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述噴管橫切面中心點到所述吸管橫切面中心點的方向指向工件表面，并垂直于工件表面。

9.根據權利要求8所述的垂直工件電化學沉積設備，其特征在于，所述管道為兩排，一排管道位于工件的正面，另一排管道位于工件的背面。