[實用新型]光罩定位結構及光罩盒有效
| 申請號: | 201220674128.2 | 申請日: | 2012-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN202956584U | 公開(公告)日: | 2013-05-29 |
| 發明(設計)人: | 王猛 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66;G03F7/20;H01L21/00;H01L21/68 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 100176 北京市大興區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定位 結構 光罩盒 | ||
1.一種光罩定位結構,用于防止位于光罩盒內的光罩發生位移,其特征在于:包括三個以上受壓變形后能夠擠壓光罩側壁的彈性定位件,所述三個以上彈性定位件環繞設置于所述光罩的四周。
2.根據權利要求1所述的光罩定位結構,其特征在于,所述彈性定位件包括彈性八面體。
3.根據權利要求2所述的光罩定位結構,其特征在于,所述彈性定位件還包括彈簧軸、彈簧和壓板,所述彈簧軸沿所述彈性八面體的豎向軸線設置,所述彈簧繞設于所述彈簧軸的外側,所述彈簧軸的上端伸出所述彈性八面體后與所述壓板固定連接。
4.根據權利要求1所述的光罩定位結構,其特征在于,所述彈性定位件均勻環繞設置于所述光罩的四周。
5.根據權利要求4所述的光罩定位結構,其特征在于,所述彈性定位件的數量是3~8個。
6.一種光罩盒,包括由底板和側板圍成的一端具有開口的盒體、用于封住所述開口的封蓋、以及用于支撐光罩的光罩支撐架,其特征在于,還包括如權利要求1所述的光罩定位結構,所述彈性定位件放松狀態時的高度大于所述封蓋封住所述開口時封蓋的內表面至所述底板的內表面之間的距離。
7.根據權利要求6所述的光罩盒,其特征在于,所述彈性定位件包括彈性八面體。
8.根據權利要求7所述的光罩盒,其特征在于,所述彈性定位件還包括彈簧軸、彈簧和壓板,所述彈簧軸沿所述彈性八面體的豎向軸線設置,所述彈簧繞設于所述彈簧軸的外側,所述彈簧軸的上端伸出所述彈性八面體后與所述壓板固定連接,彈簧放松狀態時所述壓板的上表面至所述底板的內表面之間的距離大于所述封蓋封住所述開口時封蓋的內表面至所述底板的內表面之間的距離。
9.根據權利要求6所述的光罩盒,其特征在于,所述彈性定位件均勻環繞設置于所述光罩的四周。
10.根據權利要求9所述的光罩盒,其特征在于,所述彈性定位件的數量是3~8個。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





