[實用新型]一種基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統

有效

• 申請號: 201220673447.1
• 申請日: 2012-12-08
• 公開（公告）號: CN202983500U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 池保華;楊國華;仲偉聰;孫瑞元;陳艷艷;馬杰偉;張曉明;洪流
• 申請（專利權）人: 中國航天科技集團公司第六研究院第十一研究所
• 主分類號: B01D53/79
• 分類號: B01D53/79;B01D53/56
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 張倩

1.一種基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，包括用于制備和存儲還原劑的還原劑制備和存儲模塊（1），與其相連的還原劑分配和控制模塊（2），位于旋風分離器入口的還原劑噴射模塊（3），其特征在于：所述還原劑制備和存儲模塊（1）與還原劑分配和控制模塊（2）相連，所述還原劑分配和控制模塊（2）與還原劑噴射模塊（3）相連。

2.根據權利要求1所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：所述還原劑制備和存儲模塊包括集成在一起的還原劑制備單元和存儲單元。

3.根據權利要求1或2所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：所述還原劑分配和控制模塊（2）包括集成在一起的還原劑分配單元和還原劑控制單元。

4.根據權利要求3所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：所述還原劑噴射模塊采用母管控制、單路調節方式。

5.根據權利要求4所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：還原劑制備和存儲模塊設有水置換和壓縮空氣吹掃系統。

6.根據權利要求5所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：所述還原劑分配和控制模塊（2）設置有回饋式調節機構。

7.根據權利要求6所述的基于CFB鍋爐模塊化的煙氣脫硝噴射系統，其特征在于：所述氣動渦流式復合噴射器深入爐膛長度為50mm-500mm，能夠在煙氣溫度920℃環境下長期運行。