[實用新型]一種制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具

有效

• 申請號: 201220673274.3
• 申請日: 2012-12-10
• 公開（公告）號: CN202989271U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;王海峰;楊志龍
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及OLED蒸鍍用掩模板制造領域，尤其涉及一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具。?

背景技術

有機發光二極管（Organic?Light-Emitting?Diode，簡寫為OLED）是繼陰極射線管（Cathode-ray?Tube,簡寫為CRT）、液晶顯示（Liquid?Crystal?Display,簡寫為LCD）之后的第三代顯示技術，因其可以自發光不需要背光燈，所以可視范圍寬（大于170°），而且還具有低功耗、低成本、使用溫度范圍廣（-40°～80°）等突出優點，由此決定OLED成為未來最具前途的產品之一。

制備高質量OLED屏的一種核心技術是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸鍍R、G、B三原色的有機材料制得，蒸鍍工序用到的掩模板的質量直接影響到OLED屏的質量，所以制造蒸鍍用掩模板的每一個環節都很重要。通常蒸鍍用掩模板的制作工序包括：前處理→貼膜→曝光→顯影→蝕刻（或電鑄）→脫膜→固定等工序，其中顯影、蝕刻、前處理工序中掩模板需要經過相應的處理線（顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等），由于掩模板非常薄（通常為50μm左右），在過處理線過程中由于掩模板處于一定程度的自由狀態，極易發生形變，掩膜板常常因此而報廢，有鑒于此，有必要設計一種工具，解決掩模板因過處理線變形報廢的問題。

實用新型內容

有鑒于此，需要克服現有技術中的上述缺陷中的至少一個。本實用新型提供了一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具。

所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，包括邊框架及在所述邊框架上的開口，其特征在于,所述邊框架包括兩組相對共四條對邊并在四條對邊中央形成中空區域，所述開口為位于四條所述對邊上的長條開口或離散開口；所述對邊由內邊和外邊構成，所述開口位于所述內邊和所述外邊之間。

???根據本實用新型背景技術中對現有技術所述，在通常蒸鍍用掩模板的制作工序包括：前處理→貼膜→曝光→顯影→蝕刻（或電鑄）→脫膜→固定等工序，其中顯影、蝕刻、前處理工序中掩模板需要經過相應的處理線（顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等），由于掩模板非常薄（通常為50μm左右），在過處理線過程中由于掩模板處于一定的自由狀態，極易發生形變，導致產品質量差，變形嚴重的甚至會導致產品報廢，掩膜板常常因此而報廢；本實用新型提供的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具可以將掩模板四邊進行聯接并固定使其具有一定的張力從而使其表面平整，在經過相應的處理線時，不出現形變，減少報廢率，節約生產成本，提升效率。

另外，根據本實用新型公開的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還具有如下附加技術特征：

所述邊框架是一體成型結構或四條獨立所述對邊拼接形成的結構。

所述邊框架可以是一體加工成型結構，使得整體精度更高，誤差更小；在進行精密加工過程中，能夠達到更高的精度要求，但此方法的成本相對要高；所述邊框架還可以是由四條獨立所述對邊拼接形成的結構，從此，使得邊框架加工更加簡便，通過定位機構的精確定位及牢固的固定連接方式進行連接也可達到相同的效果。

進一步地，所述邊框架形成的中空區域是多邊形或者圓形

優選地，所述多邊形為矩形。

優選地，所述多邊形夾角處為過渡曲線。

進一步地，定位機構可以是定位銷形成的定位機構，或者是定位邊形成的定位機構。

進一步地，所述拼接結構為鉚接或粘結或螺釘連接結構。

優選地，所述拼接結構是粘結結構。

所述內邊寬度為大于等于1cm，且可以根據情況進行不同的寬度設計，即可以在上述范圍內進行擴展，但不能遮擋掩模板上的圖形區域；所述內邊寬度越大，可以支撐所述掩模板的部位越多，越能避免所述掩模板因自身重力造成的懸空部分下垂所引起的相應變形，減少加工過程中成品的報廢率，提高產品質量，減少產品的報廢率。

所述外邊寬度為大于等于1cm，且可以根據情況進行不同的寬度設計，即可以在上述范圍內進行擴展，所述內邊和外邊寬度的增加，一方面增加了整體的重量，另一方面增加了所述輔助治具與處理線傳輸機構的接觸面積，增加了傳送過程中的穩定性，減少傳送過程中可能出現的位置變動形成新的誤差來源。

所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還包括與所述內邊框相連的橫梁和豎梁，所述輔助治具可以只有橫梁或只有豎梁。