[實(shí)用新型]化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其用于該設(shè)備的承載機(jī)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220663655.3 | 申請日: | 2012-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN202954089U | 公開(公告)日: | 2013-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳勇;喬徽;梁秉文;黃穎泉 | 申請(專利權(quán))人: | 光達(dá)光電設(shè)備科技(嘉興)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 楊林;馬翠平 |
| 地址: | 314300 浙江省海鹽*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 沉積 設(shè)備 及其 用于 承載 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包括腔體、進(jìn)氣裝置及承載機(jī)構(gòu),所述進(jìn)氣裝置及所述承載機(jī)構(gòu)相對設(shè)置并共同限定反應(yīng)區(qū)域,其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)包括若干襯底支撐盤及對應(yīng)的若干加熱器,所述襯底支撐盤用于支撐待處理襯底,所述若干加熱器設(shè)置在所述襯底支撐板背離所述進(jìn)氣裝置的一側(cè)并分別對應(yīng)加熱所述若干襯底支撐盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述若干加熱器的加熱功率相互獨(dú)立調(diào)節(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括底座及連接于底座下面的底座轉(zhuǎn)軸,所述襯底支撐盤通過支撐軸連接于所述底座上,所述加熱器置于所述襯底支撐盤和所述底座之間,所述底座轉(zhuǎn)軸帶動所述底座轉(zhuǎn)動,使得所述若干襯底支撐盤圍繞所述底座轉(zhuǎn)軸作公轉(zhuǎn)運(yùn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括傳動裝置,所述傳動裝置驅(qū)動所述支撐軸轉(zhuǎn)動,從而帶動所述襯底支撐盤作自轉(zhuǎn)運(yùn)動,所述傳動裝置包括第一齒輪、第二齒輪及第一齒輪軸,所述第二齒輪貫穿所述底座及所述底座轉(zhuǎn)軸固定于所述腔體底部,所述第一齒輪通過所述第一齒輪軸固定于所述底座上并與所述第二齒輪嚙合,所述第一齒輪固定連接所述支撐軸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括襯板,其上開設(shè)有與所述襯底支撐盤數(shù)量對應(yīng)的開孔,所述襯底支撐盤套設(shè)于開孔中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述襯板的上表面與所述襯底支撐盤的上表面持平。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述襯板的材料為隔熱材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述襯底支撐盤為石墨盤。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述襯底支撐盤上只設(shè)有一個襯底。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述進(jìn)氣裝置為一個噴淋頭。
11.一種用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)包括若干襯底支撐盤及對應(yīng)置于所述若干襯底支撐盤下方的若干加熱器,所述襯底支撐盤用于支撐待處理襯底,所述若干加熱器分別對應(yīng)加熱所述若干襯底支撐盤。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述若干加熱器的加熱功率相互獨(dú)立調(diào)節(jié)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括底座及連接于底座下面的底座轉(zhuǎn)軸,所述襯底支撐盤通過支撐軸連接于所述底座上,所述加熱器置于所述襯底支撐盤和所述底座之間,所述底座轉(zhuǎn)軸帶動所述底座轉(zhuǎn)動,使得所述若干襯底支撐盤圍繞所述底座轉(zhuǎn)軸作公轉(zhuǎn)運(yùn)動。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括傳動裝置,所述傳動裝置驅(qū)動所述支撐軸轉(zhuǎn)動,從而帶動所述襯底支撐盤作自轉(zhuǎn)運(yùn)動,所述傳動裝置包括第一齒輪、第二齒輪及第一齒輪軸,其中,所述第二齒輪貫穿所述底座及所述底座轉(zhuǎn)軸固定于所述腔體底部,所述第一齒輪通過所述第一齒輪軸固定于所述底座上并與所述第二齒輪嚙合,所述第一齒輪固定連接所述支撐軸。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載機(jī)構(gòu)還包括襯板,其上開設(shè)有與所述襯底支撐盤數(shù)量對應(yīng)的開孔,所述襯底支撐盤套設(shè)于開孔中。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述襯板的上表面與所述襯底支撐盤的上表面持平。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述襯板的材料為隔熱材料。
18.根據(jù)權(quán)利要求11至16中任一項(xiàng)所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述襯底支撐盤為石墨盤。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的承載機(jī)構(gòu),其特征在于,所述襯底支撐盤上只設(shè)有一個襯底。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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