[實(shí)用新型]納米壓印裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220662145.4
• 申請日: 2012-12-05
• 公開（公告）號: CN202916585U
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 史曉華;冀然;薛愉峰
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州光舵微納科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 北京同恒源知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275
• 代理人: 趙榮之

技術(shù)領(lǐng)域

?本實(shí)用新型屬于微納米器件制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種納米壓印裝置。

背景技術(shù)

納米壓印技術(shù)是一種廉價(jià)高分辨率的納米圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，通過按壓具有納米凹凸結(jié)構(gòu)的印章（納米壓印模板）到有很薄的聚合物的襯底（納米壓印基板）上實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移；對裝置進(jìn)行加熱或紫外照射，當(dāng)印章去除后，襯底上留下原始凹凸納米結(jié)構(gòu)圖形的壓印。其中納米壓印模板壓入的平衡、均勻、與表面垂直是納米壓印工藝的關(guān)鍵，任何壓入的微小不平衡、非均勻、與表面不垂直都將使圖形轉(zhuǎn)移發(fā)生畸變。

現(xiàn)有的納米壓印裝置在壓印過程中，因?yàn)槭┘拥膲毫Σ黄胶狻⒉痪鶆颉⑴c表面不垂直，或者壓印模板、壓印基板傾斜等原因，容易使圖形轉(zhuǎn)移發(fā)生畸變，造成產(chǎn)品缺陷。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種納米壓印裝置，該裝置使壓印模板的壓入平衡、均勻、與表面垂直，并且能調(diào)整壓印模板、壓印基板的平整性，保證納米結(jié)構(gòu)的精確復(fù)制。

本實(shí)用新型的納米壓印裝置，包括頂板、氣缸、腔體、加熱盤和底座，所述氣缸的缸體與頂板連接，氣缸的活塞桿與腔體連接，所述腔體與底座活動密封形成密閉空間，所述加熱盤置于該密閉空間內(nèi)且通過調(diào)平機(jī)構(gòu)固定于底座上，所述腔體上設(shè)有充氣孔。

進(jìn)一步，所述密閉空間內(nèi)還設(shè)置有膜，所述膜的兩端固定于腔體與底座的密封接觸面處，所述膜將密閉空間分隔為壓力腔和真空腔，所述加熱盤位于真空腔內(nèi)，所述壓力腔與充氣孔連通，所述真空腔內(nèi)設(shè)有抽真空氣道。

進(jìn)一步，所述腔體與底座的密封接觸面處設(shè)有密封墊。

進(jìn)一步，所述腔體上設(shè)有溢流孔，所述壓力腔與溢流孔連通。

進(jìn)一步，所述密閉空間內(nèi)還設(shè)有用于紫外固化的紫外燈。

本實(shí)用新型的有益效果在于：本實(shí)用新型利用壓力氣體對壓印模板施加壓力，由于氣體均布的特性，因此壓印模板的壓入平衡、均勻、與表面垂直，并且本實(shí)用新型還設(shè)置了調(diào)平機(jī)構(gòu)，通過調(diào)平機(jī)構(gòu)的調(diào)整，保證了壓印模板和壓印基板的平整性；本實(shí)用新型通過上述兩項(xiàng)措施克服了現(xiàn)有技術(shù)中因壓入的不平衡、非均勻、與表面不垂直，或者壓印模板、壓印基板傾斜等原因造成的產(chǎn)品缺陷，保證了納米結(jié)構(gòu)的精確復(fù)制，保證了壓印產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，并且本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，造價(jià)低廉，操作方便。

附圖說明

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述，其中：

圖1為本實(shí)用新型的納米壓印裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下將參照附圖，對本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)的描述。

圖1為本實(shí)用新型的納米壓印裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，本實(shí)用新型的納米壓印裝置，包括頂板1、氣缸2、腔體3、加熱盤4和底座5，所述氣缸2的缸體與頂板1連接，氣缸2的活塞桿與腔體3連接，所述腔體3與底座5活動密封形成密閉空間，所述加熱盤4置于該密閉空間內(nèi)且通過調(diào)平機(jī)構(gòu)6固定于底座5上，所述腔體3上設(shè)有充氣孔7；實(shí)施壓印時(shí)，壓印模板15和壓印基板16疊放于加熱盤4上，利用壓力氣體對壓印模板15施加壓力，由于氣體均布的特性，因此壓印模板15的壓入平衡、均勻、與表面垂直，并且通過調(diào)平機(jī)構(gòu)6的調(diào)整，保證了壓印模板15和壓印基板16的平整性。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述密閉空間內(nèi)還設(shè)置有膜8，所述膜8的兩端固定于腔體3與底座5的密封接觸面處，所述膜8將密閉空間分隔為壓力腔9和真空腔10，所述加熱盤4位于真空腔10內(nèi)，所述壓力腔9與充氣孔7連通，所述真空腔10內(nèi)設(shè)有抽真空氣道11；在對壓印模板15加壓之前先通過抽真空氣道11抽真空，使膜8包裹在壓印模板15和壓印基板16上,?起到預(yù)先定位的作用，同時(shí)可以增加一部分的壓力，還可以減少成品上出現(xiàn)氣泡的可能性。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述腔體3與底座5的密封接觸面處設(shè)有密封墊12；密封墊12保證了密閉空間的密封效果。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述腔體3上設(shè)有溢流孔13，所述壓力腔9與溢流孔13連通；當(dāng)壓力腔9內(nèi)的氣體超過設(shè)定壓力時(shí)，通過溢流孔13泄壓，保證了壓力腔9內(nèi)的壓力穩(wěn)定。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述密閉空間內(nèi)還設(shè)有用于紫外固化的紫外燈14；設(shè)置紫外燈14，使得本實(shí)用新型的納米壓印裝置既可進(jìn)行熱壓印制，也可進(jìn)行紫外壓印，從而實(shí)現(xiàn)了一機(jī)多用。

使用本實(shí)用新型的納米壓印裝置進(jìn)行熱壓印的步驟如下：