[實(shí)用新型]基板傳送裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220647558.5
• 申請(qǐng)日: 2012-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN203021022U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許朝欽;金基用;周子卿;贠向南;王濤;鄭鐵元
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B65G49/06
• 分類號(hào): B65G49/06;H05F3/06
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及傳送機(jī)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板傳送裝置。

背景技術(shù)

基板是一種表面平整的薄玻璃片，是構(gòu)成液晶顯示器件的基本部件之一。基板上設(shè)有基板電路，用于控制液晶顯示器的顯示。

基板生產(chǎn)加工過程中，需要通過傳送裝置進(jìn)行傳送。圖1示出了基板的傳送裝置，該傳送裝置包括：待傳送基板11、滾輪總成12及傳動(dòng)軸13。滾輪總成12套設(shè)固定在傳動(dòng)軸13上，待傳送基板11平放于由多個(gè)滾輪總成12構(gòu)成的水平面上，當(dāng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸13轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，傳動(dòng)軸13帶動(dòng)滾輪總成12與傳動(dòng)軸13一起轉(zhuǎn)動(dòng)，滾輪總成12的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)待傳送基板11在滾輪總成12上沿水平方向運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)待傳送基板11的傳送。

在待傳送基板11的傳送過程中，待傳送基板11與滾輪總成12直接接觸，兩者之間存在摩擦并會(huì)產(chǎn)生靜電離子，靜電離子會(huì)積累形成電荷并破壞待傳送基板11上的待傳送基板11電路，從而導(dǎo)致待傳送基板11的良品率下降。

為了消除待傳送基板11與滾輪總成12摩擦產(chǎn)生的靜電離子，現(xiàn)有技術(shù)提出了一種設(shè)置在傳送裝置的上方的離子發(fā)生器裝置A，離子發(fā)生器裝置A能夠產(chǎn)生離子氣體(如圖1中虛線箭頭所示)并中和摩擦產(chǎn)生的靜電離子。

在使用上述裝置來消除待傳送基板與滾輪總成摩擦產(chǎn)生的靜電離子時(shí)，除靜電離子的效果不佳，導(dǎo)致基板的良品率下降。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種基板傳送裝置，解決了在傳送基板過程中，現(xiàn)有技術(shù)的除靜電離子效果不佳，導(dǎo)致基板良品率低的問題。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

一種基板傳送裝置，包括傳動(dòng)軸及固定套設(shè)在所述傳動(dòng)軸上的滾輪總成，還包括向待傳送基板的朝向所述傳動(dòng)軸及所述滾輪總成的一面的表面噴射離子氣體的離子氣體噴射單元。

進(jìn)一步地，所述基板傳送裝置還包括所述傳動(dòng)軸上與所述離子氣體噴射單元相連通的第一中空腔體；以及還包括設(shè)于所述傳動(dòng)軸表面與所述第一中空腔體連通的第一通孔；和/或設(shè)于所述滾輪總成表面并與所述第一中空腔體連通的第二通孔。

優(yōu)選地，所述滾輪總成包括與所述離子氣體噴射單元相連通的第二中空腔體，所述第二中空腔體與所述第二通孔、第一中空腔體連通。

優(yōu)選地，所述傳動(dòng)軸的端部具有與所述第一中空腔體和所述離子氣體噴射單元相連通的通路。

進(jìn)一步地，所述第一通孔為多個(gè)，且沿所述傳動(dòng)軸的軸向均勻分布。

優(yōu)選地，所述第二通孔為多個(gè)，且沿所述滾輪總成的周向均勻分布。

并進(jìn)一步地，所述第一通孔為圓形或多邊形孔結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述第二通孔為圓形或多邊形孔結(jié)構(gòu)。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板傳送裝置中，由于設(shè)置了傳動(dòng)軸與滾輪總成，使基板在滾輪總成上傳送，而且還設(shè)置了向待傳送基板的朝向傳動(dòng)軸及滾輪總成的表面噴射離子氣體的離子氣體噴射單元，使離子氣體能夠充斥在基板下表面與滾輪總成之間，從而使基板下表面與滾輪總成摩擦產(chǎn)生的靜電離子充分接觸并中和，提高了除靜電離子效果和基板的良品率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中基板的傳送裝置示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的具有待傳送基板的基板傳送裝置的主視示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的具有待傳送基板的一種基板傳送裝置的示意圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種基板傳送裝置的示意圖；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種基板傳送裝置的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種基板傳送裝置，如圖2所示，包括傳動(dòng)軸21及套設(shè)固定在傳動(dòng)軸21上的滾輪總成22，還包括向待傳送基板11的朝向傳動(dòng)軸21及滾輪總成22的表面噴射離子氣體的離子氣體噴射單元23。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板傳送裝置中，由于設(shè)置了傳動(dòng)軸21與滾輪總成22，使基板11在滾輪總成22上傳送，而且還設(shè)置了向待傳送基板11的朝向傳動(dòng)軸21及滾輪總成22的表面噴射離子氣體的離子氣體噴射單元23，使離子氣體能夠充斥在基板11下表面與滾輪總成22之間，從而使基板11下表面與滾輪總成22摩擦產(chǎn)生的靜電離子充分接觸并中和，提高了除靜電離子效果和基板11的良品率。