[實用新型]用于干燥襯底的設備有效
| 申請號: | 201220646816.8 | 申請日: | 2012-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN203242603U | 公開(公告)日: | 2013-10-16 |
| 發明(設計)人: | 馬蒂亞斯·尼澤;約爾格·弗蘭茨克 | 申請(專利權)人: | 睿納有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 張春水;田軍鋒 |
| 地址: | 德國居*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 干燥 襯底 設備 | ||
1.用于干燥襯底的設備,具有:?
用于降低和提升支承體(6)的運動裝置(3,4),使得支撐在所述支承體(6)上的襯底能夠浸入到處理液體的液位之下并且能夠沿基本上垂直方向(V)從所述處理液體中提出,使得所述處理液體基本上完全從所述襯底的表面流走,?
其特征在于,?
設有偏轉裝置(5),所述支承體(6)能夠借助于所述偏轉裝置在提升時相對于所述豎直方向(V)偏轉預設的角度(α,β)。?
2.根據權利要求1所述的設備,其中所述支承體(6)具有兩個短的棱邊(8a、8b)和兩個長的棱邊(7),所述棱邊形成支承平面(xy)。?
3.根據權利要求1所述的設備,其中所述支承體(6)構造為用于容納支承箱的框架。?
4.根據權利要求2所述的設備,其中所述支承體(6)構造為用于容納支承箱的框架。?
5.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述運動裝置具有至少一個第一線性運動裝置(3)和至少一個第二線性運動裝置(4)。?
6.根據權利要求5所述的設備,其中所述偏轉裝置具有至少一個與所述支承體(6)連接的第三線性運動裝置(5)。?
7.根據權利要求6所述的設備,其中所述第一線性運動裝置(3)和所述第三線性運動裝置(5)鉸接地安裝在第一短棱邊(8a)的角區域中,并且所述第二線性運動裝置(4)鉸接地安裝在第二短棱邊(8b)處。?
8.根據權利要求6所述的設備,其中設有用于控制所述第一線性運動裝置、第二線性運動裝置和第三線性運動裝置(3,4,5)的控制器,使得在浸入時,所述支承平面(xy)基本上水平地定向。?
9.根據權利要求6所述的設備,其中設有用于控制所述第一線性運動裝置、第二線性運動裝置和第三線性運動裝置(3,4,5)的控制器,使得在提升時,豎直地穿過所述支承平面(xy)延伸的z軸(z)在包含所述豎直方向(V)的xz平面中相對于所述豎直方向(V)偏轉最高±20°的第一角度(α)。?
10.根據權利要求6所述的設備,其中設有用于控制所述第一線性運動裝置、第二線性運動裝置和第三線性運動裝置(3,4,5)的控制器,使得在提升時,豎直地穿過所述支承平面(xy)延伸的z軸(z)在包含所述豎直方向(V)的xz平面中相對于所述豎直方向(V)偏轉最高±10°的第一角度(α)。?
11.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述z軸(z)在包含所述豎直方向(V)的yz平面中相對于所述豎直方向(V)偏轉最高±20°的第二角度(β)。?
12.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述z軸(z)在包含所述豎直方向(V)的yz平面中相對于所述豎直方向(V)偏轉最高±10°的第二角度(β)。?
13.根據權利要求6所述的設備,其中設有用于控制所述第一線性運動裝置、第二線性運動裝置和第三線性運動裝置(3,4,5)的控制器,使得在提出期間連續地偏轉所述支承體(6)。?
14.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述支承體(6)在提起時根據預設的軌跡偏轉。?
15.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述襯底以基本上彼此平行的布置方式支撐在所述支承體(6)上。?
16.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述襯底支撐在所述支承體(6)上,使得所述襯底的上側基本上平行于所述支承體(6)的所述z軸(z)定向。?
17.根據權利要求1至4之一所述的設備,其中所述襯底容納在支承箱中,所述支承箱置于所述支承體(6)上。?
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





