[實用新型]一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201220634907.X
• 申請日: 2012-11-27
• 公開（公告）號: CN202943941U
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 郭明;楊建社;呂新礦;呂哲虎;常搏
• 申請（專利權）人: 金堆城洛陽節能玻璃有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;C03C17/36
• 代理公司: 洛陽明律專利代理事務所 41118
• 代理人: 智宏亮

技術領域

本實用新型屬于一種鍍膜玻璃，主要涉及一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。

背景技術

低輻射鍍膜玻璃是指在玻璃表面沉積一層高紅外線反射材料（金屬銀），使玻璃吸收太陽光光譜中的紅外線和其它物體發出的紅外線非常少，玻璃自身又不存儲能量，因此鍍膜玻璃向外輻射的紅外線也非常少，稱為低輻射鍍膜玻璃。該玻璃用于窗戶上，可有效地阻擋太陽光中的紅外線進入室內，降低夏天室內溫度，節約空調制冷費用，冬天可以阻擋室內物體發出的紅外線被玻璃吸收，散發到室外，提高室內溫度，節約取暖費用。

現在市場上已經有很多種低輻射鍍膜玻璃產品，第一層膜用氧化錫，第二層膜都是銀膜，也有前面加一層鎳鉻膜的結構，第三層都用鎳鉻層，第四層主要為保護膜，一般采用氧化錫或氮化硅作保護膜，這些產品在鋼化過程中會出現變色、低輻射性能變差等問題。

發明內容

本實用新型目的是提供一種九層膜結構的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，使其具有膜層可以經受鋼化爐高溫的考驗，仍然保持低輻射性能不變。

本實用新型的目的可采用如下技術方案來實現：其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上從底層向上依次鍍有氮化硅膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳膜層、氧化鋅錫膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳膜層、氮化硅膜層，從而構成九層膜結構的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。

采用上述結構，第一、九層膜采用氮化硅膜，可以提高膜層與玻璃的結合力，提高膜層的耐磨、耐腐蝕性能；第二、六層膜采用氧化鋅鋁膜,提高與銀膜的附著力,第四、八層膜采用鎳膜，可以保證銀膜層在鋼化爐內600多度的高溫下，不被氧化或與其它物質反應,具有膜層不變色、輻射率不變化的優點。具有兩個不相鄰的銀膜層，可以使鍍膜玻璃具有非常低的輻射率。

附圖說明

附圖1為本實用新型的具體結構示意圖。

圖中：1、玻璃基片，2、氮化硅膜層，3、氧化鋅鋁膜層，4、銀膜層，5、鎳膜層，6、氧化鋅錫膜層，7、氧化鋅鋁膜層，8、銀膜層，9、鎳膜層，10、氮化硅膜層。

具體實施方式

結合附圖，說明本實用新型的具體實施例。

如附圖1所示：其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上從底層向上依次

鍍有氮化硅膜層2、氧化鋅鋁膜層3、銀膜層4、鎳膜層5、氧化鋅錫膜層6、氧化鋅鋁膜層7、銀膜層8、鎳膜層9、氮化硅膜層10，從而構成九層膜結構的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。

本實用新型是在真空環境下，通過磁控濺射在玻璃表面沉積九層膜的方法，生產一種紅外線輻射率很低的鍍膜玻璃。所述的低輻射鍍膜玻璃是在鍍膜室抽真空至1.1×10^-4Pa以下，充入工藝氣體（氧氣或氮氣或氬氣），使鍍膜室壓力穩定在0.3Pa左右，將濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃將靶材原子或其化合物沉積到玻璃表面。第一個鍍膜室充入氮氣，靶材為硅靶，將氮化硅膜沉積到玻璃表面為第一層膜，厚度5至60納米，第二個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅鋁靶，在氮化硅上面沉積第二層氧化鋅鋁膜，厚度3至20納米；第三個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化鋅鋁膜上沉積第三層銀膜，厚度5至20納米；第四個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳靶，在銀膜上沉積第四層鎳膜，厚度1至10納米；第五個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅錫靶，將氧化鋅錫膜沉積到鎳膜上為第五層膜，厚度20至60納米，第六個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳靶，在氧化鋅錫膜上面沉積第六層鎳膜，厚度1至10納米；第七個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在鎳膜上沉積第七層銀膜，厚度1至10納米；第八個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳靶，在銀膜上沉積第八層鎳膜，厚度1至10納米；第九個鍍膜室充入氮氣和氬氣，靶材為硅靶，在鎳膜上沉積第九層氮化硅膜，厚度15～60納米。

綜上所述，本實用新型生產效率高，輻射率低，可以在玻璃上鍍低輻射膜后再鋼化時，保證銀膜層在鋼化爐內600多度的高溫下，不被氧化或與其它物質反應，具有膜層不變色、輻射率不變化的優點。