[實用新型]一種耐高溫可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220634723.3 | 申請日: | 2012-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN202945162U | 公開(公告)日: | 2013-05-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 郭明;楊建社;周世華;竇彥君;楊浩 | 申請(專利權(quán))人: | 金堆城洛陽節(jié)能玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 洛陽明律專利代理事務所 41118 | 代理人: | 智宏亮 |
| 地址: | 471202 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 耐高溫 可鋼化雙銀低 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
技術(shù)領域
本實用新型屬于一種鍍膜玻璃,主要涉及一種耐高溫可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)
低輻射鍍膜玻璃是指在玻璃表面沉積一層高紅外線反射材料(金屬銀),使玻璃吸收太陽光光譜中的紅外線和其它物體發(fā)出的紅外線非常少,玻璃自身又不存儲能量,因此鍍膜玻璃向外輻射的紅外線也非常少,稱為低輻射鍍膜玻璃。該玻璃用于窗戶上,可有效地阻擋太陽光中的紅外線進入室內(nèi),降低夏天室內(nèi)溫度,節(jié)約空調(diào)制冷費用,冬天可以阻擋室內(nèi)物體發(fā)出的紅外線被玻璃吸收,散發(fā)到室外,提高室內(nèi)溫度,節(jié)約取暖費用。
現(xiàn)在市場上已經(jīng)有很多種低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品,第一層膜用氧化錫,第二層膜都是銀膜,也有前面加一層鎳鉻膜的結(jié)構(gòu),第三層都用鎳鉻層,第四層主要為保護膜,一般采用氧化錫或氮化硅作保護膜,這些產(chǎn)品在鋼化過程中會出現(xiàn)變色、低輻射性能變差等問題。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型目的是提供一種九層膜結(jié)構(gòu)的耐高溫可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,使其具有膜層可以經(jīng)受鋼化爐高溫的考驗,仍然保持低輻射性能不變。
本實用新型的目的可采用如下技術(shù)方案來實現(xiàn):其具有玻璃基片,在玻璃基片表面上從底層向上依次鍍有氮化硅膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳膜層、氧化鋅錫銻膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳膜層、氮化硅膜層,從而構(gòu)成九層膜結(jié)構(gòu)的耐高溫可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
本實用新型的第一、九層膜采用氮化硅膜,可以提高膜層與玻璃的結(jié)合力,提高膜層的耐磨、耐腐蝕性能;第二、六層膜采用氧化鋅鋁膜,提高與銀膜的附著力,第四、八層膜采用鎳膜,可以保證銀膜層在鋼化爐700多度的高溫下,700秒內(nèi)不被氧化或與其它物質(zhì)反應,具有膜層不變色、輻射率不變化的優(yōu)點。由于具有兩個不相鄰的銀膜層,可以使鍍膜玻璃具有非常低的輻射率。
附圖說明
附圖1為本實用新型的具體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1、玻璃基片,2、氮化硅膜層,3、氧化鋅鋁膜層,4、銀膜層,5、鎳膜層,6、氧化鋅錫銻膜層,7、氧化鋅鋁膜層,8、銀膜層,9、鎳膜層,?
10、氮化硅膜層。
具體實施方式
結(jié)合附圖,說明本實用新型的具體實施例。
如附圖1所示:其具有玻璃基片1,在玻璃基片表面上從底層向上依次
鍍有氮化硅膜層2、氧化鋅鋁膜層3、銀膜層4、鎳膜層5、氧化鋅錫銻膜層6、氧化鋅鋁膜層7、銀膜層8、鎳膜層9、氮化硅膜層10,從而構(gòu)成九層膜結(jié)構(gòu)的耐高溫可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
本實用新型是在真空環(huán)境下,通過磁控濺射在玻璃表面沉積九層膜的方法,生產(chǎn)一種紅外線輻射率很低的鍍膜玻璃。所述的低輻射鍍膜玻璃是在鍍膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下,充入工藝氣體(氧氣或氮氣或氬氣),使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0.3Pa左右,將濺射源送電,靶材開始濺射,送入玻璃將靶材原子或其化合物沉積到玻璃表面。第一個鍍膜室充入氮氣,靶材為硅靶,將氮化硅膜沉積到玻璃表面為第一層膜,厚度5至60納米,第二個鍍膜室充入氧氣和氬氣,靶材為鋅鋁靶,在氮化硅上面沉積第二層氧化鋅鋁膜,厚度3至20納米;第三個鍍膜室充入氬氣,靶材為銀靶,在氧化鋅鋁膜上沉積第三層銀膜,厚度5至20納米;第四個鍍膜室充入氬氣,靶材為鎳靶,在銀膜上沉積第四層鎳膜,厚度1至10納米;第五個鍍膜室充入氧氣和氬氣,靶材為鋅錫銻靶,將氧化鋅錫銻膜沉積到鎳膜上為第五層膜,厚度20至60納米,第六個鍍膜室充入氬氣,靶材為鎳靶,在氧化鋅錫銻膜上面沉積第六層鎳膜,厚度1至10納米;第七個鍍膜室充入氬氣,靶材為銀靶,在鎳膜上沉積第七層銀膜,厚度1至10納米;第八個鍍膜室充入氬氣,靶材為鎳靶,在銀膜上沉積第八層鎳膜,厚度1至10納米;第九個鍍膜室充入氮氣和氬氣,靶材為硅靶,在鎳膜上沉積第九層氮化硅膜,厚度15~60納米。
綜上所述本實用新型生產(chǎn)效率高,輻射率低,可以在玻璃上鍍低輻射膜后再鋼化時,保證銀膜層在鋼化爐內(nèi)700多度的高溫下,700秒內(nèi)不被氧化或與其它物質(zhì)反應,具有膜層不變色、輻射率不變化的優(yōu)點。
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