[實(shí)用新型]水鉆磨拋機(jī)的磨拋機(jī)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220622560.7
• 申請日: 2012-11-22
• 公開（公告）號: CN202894929U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊朝平;楊朝岳
• 申請（專利權(quán)）人: 瑞安市萬嘉機(jī)械有限公司
• 主分類號: B24B9/16
• 分類號: B24B9/16
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 林元良

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種水鉆磨拋機(jī)，特別涉及一種水鉆磨拋機(jī)的磨拋盤結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

水鉆是將人造水晶玻璃切割成鉆石刻面得到的一種飾品輔件，水鉆是在水鉆磨拋機(jī)上，由機(jī)械手帶動裝載有水鉆胚料的針管在不同工位上轉(zhuǎn)換來加工的，一般要經(jīng)過各個(gè)加工角度的研磨，再經(jīng)過各個(gè)加工角度的拋光來得到水鉆上的鉆石刻面。傳統(tǒng)的水鉆磨拋機(jī)上的研磨盤和拋光盤是在同一平面上獨(dú)立設(shè)置的，而且大小相同，研磨盤和拋光盤都具有各自的驅(qū)動電機(jī)，研磨盤與拋光盤的線速度基本相同，在這種結(jié)構(gòu)中，對于拋光盤和研磨盤來說，線速度相對較小，因而，水鉆在上研磨時(shí)，很容易被劃傷，這種研磨盤和拋光盤在同一平面上獨(dú)立設(shè)置的結(jié)構(gòu)，加大了機(jī)器的占地空間，整個(gè)水鉆磨拋機(jī)外形巨大，比較笨重。而且水鉆在拋光后，光潔度較差。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種占地空間少水鉆磨拋后光潔度好的水鉆磨拋機(jī)的磨拋機(jī)構(gòu)。

為此，本實(shí)用新型是通過如下方式實(shí)現(xiàn)的：一種水鉆磨拋機(jī)的磨拋機(jī)構(gòu)，包括電機(jī)、研磨盤和拋光盤，其特征在于：所述研磨盤的中心和拋光盤的中心位于同一軸線上，所述研磨盤和拋光盤均與所述電機(jī)傳動連接。

所述研磨盤和拋光盤上分別設(shè)有第一驅(qū)動軸和第二驅(qū)動軸，所述第二驅(qū)動軸內(nèi)設(shè)有通孔，所述第一驅(qū)動軸可轉(zhuǎn)動置于通孔內(nèi)，所述第一驅(qū)動軸和第二驅(qū)動軸都與電機(jī)傳動連接。

所述第一驅(qū)動軸下端設(shè)有第一皮帶輪，所述第二驅(qū)動軸下端設(shè)有第二皮帶輪，其中，第一皮帶輪的直徑比第二皮帶輪直徑小，所述第一齒輪和第二齒輪都通過傳動帶與電機(jī)連接。

所述研磨盤與拋光盤可以同心設(shè)置也可以上下設(shè)置。

在本實(shí)用新型中，研磨盤和拋光盤安裝在同一條軸線上后，使得水鉆磨拋機(jī)整體減少了占地空間，整機(jī)體積精巧，水鉆在其上研磨時(shí)，減少了水鉆的劃傷幾率，使得加工后的水鉆光潔度得以提高。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中A-A面的剖視圖。

具體實(shí)施方式

如圖1、圖2所示，這種水鉆磨拋機(jī)的磨拋機(jī)構(gòu)，包括電機(jī)6、研磨盤2和拋光盤1，所述研磨盤2的中心和拋光盤1的中心位于同一軸線上，本實(shí)施例中，研磨盤2和拋光盤1進(jìn)行同心設(shè)置，當(dāng)然也可以進(jìn)行上下設(shè)置。研磨盤的直徑比拋光盤小，所述研磨盤2和拋光盤1都與電機(jī)6傳動連接，具體是如下傳動連接的：所述研磨盤2和拋光盤1上分別設(shè)有第一驅(qū)動軸7和第二驅(qū)動軸8，所述第二驅(qū)動軸8內(nèi)設(shè)有通孔11，所述第一驅(qū)動軸7可轉(zhuǎn)動置于通孔11內(nèi)，所述第一驅(qū)動軸7下端設(shè)有第一皮帶輪4，所述第二驅(qū)動軸8下端設(shè)有第二皮帶輪5，其中，第一皮帶輪4的直徑比第二皮帶輪5直徑小，所述第一齒輪4和第二齒輪5都通過傳動帶10與電機(jī)6連接，所述第一驅(qū)動軸7上設(shè)有外殼3，用來保護(hù)第一驅(qū)動軸7。本實(shí)用新型的這種結(jié)構(gòu)，研磨盤2和拋光盤1與同一電機(jī)6傳動連接后，而且研磨盤2的直徑比拋光盤小，而且第一皮帶輪4的直徑比第二皮帶輪5的執(zhí)行小，故而，電機(jī)6驅(qū)動后，使得研磨盤2的線速度得以提高，基本上與拋光盤1的線速度一致，使得水鉆在研磨盤2上研磨時(shí)，減少劃傷的幾率。而同時(shí)拋光盤1的直徑較大，水鉆在上拋光時(shí)，延長了拋光時(shí)間，提高了水鉆的光潔度。特別是研磨盤2和拋光盤1的中心在同一軸線上，減少水鉆磨拋機(jī)的占地空間，使得整機(jī)的體積變得精巧。當(dāng)然，也可以將研磨盤的直徑設(shè)計(jì)得比拋光盤大，使得拋光盤置于研磨盤的內(nèi)圈或上方，這種結(jié)構(gòu)實(shí)際上與上述是相同的，效果也相同。

在上述實(shí)施例中，水鉆磨拋機(jī)運(yùn)作時(shí)，電機(jī)6運(yùn)轉(zhuǎn)通過傳動帶10帶動第一皮帶輪4和第二皮帶輪5轉(zhuǎn)動，第一皮帶輪4和第二皮帶輪5分別帶動第一驅(qū)動軸7和第二驅(qū)動軸8轉(zhuǎn)動，從而帶動第一驅(qū)動軸7上的拋光盤1和第二驅(qū)動軸8上的研磨盤2轉(zhuǎn)動，機(jī)械手首先帶著水鉆胚料在研磨盤2上進(jìn)行研磨加工，研磨完畢后，再向外側(cè)略微移動，就可以到達(dá)拋光盤1位置，從而對水鉆胚料進(jìn)行拋光加工，這樣機(jī)械手從研磨盤2到拋光盤1的行程就變得十分短，防止水鉆胚料因長時(shí)間受到機(jī)體震動影響而掉落的同時(shí)，也加快了水鉆的加工效率。