[實用新型]浸入式流體分析設備

有效

• 申請號: 201220618156.2
• 申請日: 2012-11-21
• 公開（公告）號: CN202994651U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 于志偉
• 申請（專利權）人: 于志偉
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25;G01N21/31;G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及氣體或液體的分析，尤其涉及一種浸入式流體分析設備。

背景技術

隨著社會發展及生活水平的提高，人們對自身的生存環境越來越重視，對空氣、飲用、食品等的質量的關注也逐步提高。光譜分析技術作為一種高精度、快速、低功耗的分析技術，如吸收光譜分析技術，可廣泛應用在煙氣連續分析、水質連續分析中。

在煙氣分析中，通常采用取樣法和在位法。其中，取樣法的分析過程為：通過抽氣泵取樣煙道內的待測煙氣，之后再送入加熱的氣體室內，光源發出的光穿過煙道內的待測煙氣，由于吸收而被衰減的光進入光譜儀內，后經電子模塊的分析后獲知煙氣中各成分的含量。上述加熱氣體室、光譜儀及復雜的流路系統、控制系統都安裝在大體積的機柜內。具體做法請參見專利文獻US5621213、DE3714346A1、JP2003-14627A、CN206100518957、CN2008101215043等。在位法的分析過程為：煙道外的光源穿過煙道內的煙氣，由于吸收而被衰減的光進入煙道外的光譜儀內，后經電子模塊的分析后獲知煙氣中各成分的含量。上述光譜儀及復雜控制系統都安裝在大體積的機柜內，機柜體積通常超過1m³，重量超過100kg。具體做法請參見CN008137250、《DOAS?for?flue?gas?monitoring-III?In-situ?monitoring?of?sulfur?dioxide，nitrogen?monoxide?and?ammonia》JohanMellqvist?J.Quant.Spectrosc.Radiat.Transfer?Vol.56，No.2，pp.225-240.1996。

在水質分析中，通常采用取樣法，分析過程為：通過泵取樣待測水樣，之后再送入測量池內，光源發出的光穿過測量池內的待測水樣，由于吸收而被衰減的光進入光譜儀內，后經電子模塊的分析后獲知待測水樣的參數。上述光源、光譜儀及復雜的流路系統、控制系統都安裝在大體積的機柜內，機柜體積通常超過0.5m³，重量超過120kg具體做法請參見中國專利文獻CN2008100622678、CN2008100622682。

上述分析方式具有諸多不足，如：

1、體積大，上述的光譜儀都是獨立的模塊，和控制系統、流路系統一起安裝在大的機柜內；

2、器件分散，生產、維護不方便。

3、成本高，復雜的流路系統、獨立設計的光譜儀、大體積的機柜都提高了生產成本。

實用新型內容

本實用新型解決的技術問題是克服現有技術存在的上述缺陷，提供一種結構緊湊、維護方便、成本低、功能全面、能便攜的浸入式流體分析設備。

本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的：

浸入式流體分析設備，所述分析設備包括：

光源，所述光源用于發出測量光；

測量池，所述測量池處于所述光源和光學模塊之間，用于在浸入時容納待測流體；

光電檢測部件，所述光電檢測部件用于將穿過所述測量池的測量光信號轉換為電信號，并傳送到所述電子模塊；

電子模塊，所述電子模塊用于根據光譜分析技術處理接收到的所述電信號，從而獲知所述待測流體的參數；

第一腔體，所述第一腔體內部中空，設置在所述光源的一側，并與所述測量池保持密封；

電路保護模塊，所述電路保護模塊設置在所述第一腔體內，用于保護光源模塊；

第一堵頭，所述第一堵頭用于通過線纜，設置在所述第一腔體的遠離所述測量池的一端，并與所述第一腔體保持密封。

根據上述的流體分析設備，可選地，所述分析設備進一步包括：

第二腔體，所述第二腔體內部中空，設置在所述測量池和第一腔體之間，并與所述測量池、第一腔體保持密封；

光源模塊，所述光源模塊設置在所述第二腔體內，信號輸出端與所述光源連接；

第二堵頭，所述第二堵頭設置在所述第二腔體的遠離所述測量池的一端，用于固定所述光源模塊。

根據上述的流體分析設備，可選地，所述分析設備進一步包括：

第三腔體，所述第三腔體的內部中空，設置在所述測量池的一側，并與所述測量池保持密封；

會聚部件，所述會聚部件設置在所述第三腔體的內部，用于將所述光源發出的且穿過所述測量池的測量光會聚在狹縫處；

狹縫，所述狹縫設置在所述第三腔體的內部，且處于所述會聚部件的一側；

分光部件，所述分光部件通過安裝部件設置在所述第三腔體內；