[實用新型]用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置

有效

• 申請號: 201220605307.0
• 申請日: 2012-11-15
• 公開（公告）號: CN203002359U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 陶海華;張雙喜;蔣為橋;王慶康
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12;A61L2/10;C23C16/48
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 郭國中

1.一種用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，主要由真空腔室、紫外光源系統、真空泵系統和真空控制系統組成，其中，所述紫外光源系統包括相連接的紫外燈控制電源和紫外燈管，所述真空腔室包括外腔室和內腔室，所述外腔室內安裝有所述紫外燈管，所述內腔室內設置有所述樣品臺、加熱裝置和水冷裝置，所述內腔室還設置有氣體輸入端口、氣體輸出端口，所述氣體輸入端口連接有氧氣存儲裝置、氮氣存儲裝置、氬氣存儲裝置、氫氣存儲裝置，能夠實現化學氣相表面處理，所述紫外燈管發射的光通過所述內腔室的石英窗口，照射到所述樣品臺上，所述內腔室充有一定壓強的氧氣；所述真空泵系統和真空控制系統用于產生并控制真空腔室內的真空度。

2.根據權利要求1所述的用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，所述紫外燈管功率為100W、主要發射波長為184.9nm和253.7nm的紫外光。

3.根據權利要求1所述的用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，所述內腔室上部主要由石英材料制成，下部主要為不銹鋼材料制成，所述內腔室頂部具有在波長184.9nm和253.7nm處高透過率的石英窗口，所述石英窗口的尺寸不小于所述內腔室的內部孔徑，所述氣體輸入端口、氣體輸出端口設置在所述內腔室下部不銹鋼部分。

4.根據權利要求1所述的用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，所述樣品臺由石英材料制作，其高度通過控制桿在一定范圍內可調節，以實現和有效控制紫外光化學表面處理，所述控制桿由兩部分組成，即與所述樣品臺連接且位于所述內腔室內的石英桿以及與所述石英桿相連通往真空腔室外部的不銹鋼桿。

5.根據權利要求1所述的用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，所述真空泵系統由兩級組成泵，即機械泵和分子泵。

6.根據權利要求1所述的用于化學氣相和紫外光化學干法表面清洗改性的真空裝置，其特征在于，所述真空控制系統主要包括：氣體流量計、真空計、溫度控制系統和水冷系統。