[實(shí)用新型]非接觸式清洗機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220600853.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202962971U | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾毅;連杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 曾毅 |
| 主分類號(hào): | B08B7/04 | 分類號(hào): | B08B7/04;B08B13/00 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 胡海國(guó) |
| 地址: | 518000 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 接觸 清洗 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及清洗機(jī)領(lǐng)域,尤其涉及一種非接觸式清洗機(jī)。
背景技術(shù)
清洗機(jī)是一種用來(lái)清洗基體上的塵埃、毛發(fā)、粉末、蒸氣、煙霧等顆粒,以及有機(jī)物和水漬的,被清洗的基板一般都是由接觸式的滾輪搬送,在清洗機(jī)的清洗設(shè)備中移動(dòng),在FPD業(yè)界搬送玻璃基板,全部都是接觸式滾輪搬送,現(xiàn)在這個(gè)搬送方法也成為了主流。但是該種搬運(yùn)方式具有明顯的缺點(diǎn),1、在清洗基板上有可能留下滾輪痕;2、可能對(duì)輕于0.5t的清洗基板搬送不良。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型旨在提供一種不會(huì)留下滾輪痕和能夠搬送較輕的清洗基板的非接觸式清洗機(jī)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出的一種技術(shù)方案為:一種非接觸式清洗機(jī),包括清洗設(shè)備,該清洗設(shè)備設(shè)有基于純水頂上壓力、表面張力,以及應(yīng)用高壓空氣,將清洗基板浮起的浮起裝置和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滾輪,該清洗設(shè)備設(shè)有依次相鄰的超聲波清洗裝置和洗濯裝置。
優(yōu)選地,所述清洗設(shè)備還包括位于所述超聲波清洗裝置前面的電解水清洗裝置。
優(yōu)選地,所述電解水清洗裝置和超聲波清洗裝置之間設(shè)有水蒸氣清洗裝置和/或刷子清洗裝置。
優(yōu)選地,所述清洗設(shè)備的洗濯裝置連接一利用風(fēng)刀的干燥設(shè)備,該干燥設(shè)備設(shè)有基于空氣頂升壓力的空氣浮起裝置。
優(yōu)選地,所述清洗設(shè)備兩邊設(shè)有可調(diào)整的玻璃擋板。
本實(shí)用新型的有益效果為:區(qū)別于現(xiàn)有清洗機(jī)將清洗基體與滾輪傳送機(jī)構(gòu)接觸傳送,在清洗基板上有可能留下滾輪痕和可能對(duì)輕于0.5t的清洗基板搬送不良,本實(shí)用新型的的非接觸式清洗機(jī),在清洗設(shè)備中設(shè)置有基于純水頂上壓力、表面張力,以及應(yīng)用高壓空氣,將清洗基板浮起的水浮起裝置和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滾輪,這樣可以使清洗基板只與清洗液接觸,同時(shí)由滾輪推動(dòng)清洗基板的端面進(jìn)行移動(dòng),這樣就可以,1、不會(huì)在清洗基體上留有滾輪痕;2、有利于搬送薄板分量輕(0.5t以下)的清洗基板;3、純水使用量少,可應(yīng)用使用藥液的程序;4、可應(yīng)用使用藥液的工序,處理效果均一;5、可均一清洗表里兩面。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的非接觸式清洗劑的結(jié)構(gòu)示意圖。
本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例,參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例就本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。
本實(shí)用新型提出一種非接觸式清洗機(jī)。
參照?qǐng)D1,圖1為非接觸式清洗劑的結(jié)構(gòu)示意圖。
在本實(shí)用新型的實(shí)施例中,一種非接觸式清洗機(jī),包括清洗設(shè)備,該清洗設(shè)備設(shè)有基于純水頂上壓力、表面張力,以及應(yīng)用高壓空氣,將清洗基板浮起的水浮起裝置6和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滾輪(圖中未示出),該清洗設(shè)備設(shè)有依次相鄰的超聲波清洗裝置4和洗濯裝置5。當(dāng)然在清洗設(shè)備前會(huì)有一個(gè)入口,該入口一般使用基于高壓空氣頂升壓力的空氣浮起裝置。
在清洗設(shè)備中設(shè)置有基于純水頂上壓力和表面張力將清洗基板浮起的水浮起裝置6和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滾輪,這樣可以使清洗基板只與清洗液接觸,同時(shí)由滾輪推動(dòng)清洗基板的端面進(jìn)行移動(dòng),這樣,一、不會(huì)在清洗基體上留有滾輪痕;二、有利于搬送薄板分量輕(0.5t以下)的清洗基板,在本實(shí)施例中,最輕可以清洗0.1t的清洗基板而不會(huì)出現(xiàn)運(yùn)送不良的情況;三、純水使用量少,可應(yīng)用使用藥液的程序;四、可應(yīng)用使用藥液的工序,處理效果均一;五、可均一清洗表里兩面;六、排除噴霧程序的液體不飛散的WET處理設(shè)備。
在上述實(shí)施例中,所述清洗設(shè)備還包括位于所述超聲波清洗裝置4前面的電解水清洗裝置1。取決于單片板,Cell?Panel等的清洗基板種類,在超聲波清洗前階段,設(shè)置電解水處理工序,從而使得可以輕松剝下清洗基板的玻璃碎片和顆粒。
在上述實(shí)施例中,所述電解水清洗裝置1和超聲波清洗裝置4之間設(shè)有水蒸氣清洗裝置2和/或刷子清洗裝置3,這樣可以對(duì)不同清洗基板的種類,進(jìn)行對(duì)應(yīng)的清洗工序,可清洗的更加干凈和徹底。
在上述實(shí)施例中,所述清洗設(shè)備的洗濯裝置5連接一利用風(fēng)刀的干燥設(shè)備7,該干燥設(shè)備7設(shè)有基于空氣頂升壓力的空氣浮起裝置8,同樣是可以防止在清洗基板上留下滾痕。
在上述實(shí)施例中,所述清洗設(shè)備兩邊設(shè)有可調(diào)整的玻璃擋板,這樣可以根據(jù)清洗基板的寬度,進(jìn)行調(diào)整。調(diào)整機(jī)構(gòu)一般是采用齒輪聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu),可以通過(guò)手搖或馬達(dá)驅(qū)動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)動(dòng)力的輸入,使兩邊的玻璃擋板相對(duì)的運(yùn)動(dòng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于曾毅,未經(jīng)曾毅許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220600853.5/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





