[實用新型]一種浸洗槽有效
| 申請號： | 201220582756.8 | 申請日： | 2012-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN202996794U | 公開（公告）日： | 2013-06-12 |
| 發明（設計）人： | 王京雨 | 申請（專利權）人： | 王京雨 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;B08B3/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 315000 浙江省寧波市海曙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 浸洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種浸洗槽，包括浸洗槽體（1）和液位檢測裝置，所述液位檢測裝置包括高液位檢測裝置（2）和低液位檢測裝置（3），其特征是：所述浸洗槽體（1）的一側設有檢測槽體（4），所述檢測槽體（4）與浸洗槽體（1）相連通，所述高液位檢測裝置（2）和低液位檢測裝置（3）均設置在檢測槽體（4）上。
2.根據權利要求1所述的浸洗槽，其特征是：所述高液位檢測裝置（2）位于檢測槽體（4）的頂部，低液位檢測裝置（3）位于檢測槽體（4）的底部。
3.根據權利要求1所述的浸洗槽，其特征是：所述液位檢測裝置還包括安全液位檢測裝置（5）。
4.根據權利要求2所述的浸洗槽，其特征是：所述安全液位檢測裝置（5）位于高液位檢測裝置（2）和低液位檢測裝置（3）之間。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
