[實用新型]一種RENA刻蝕設備的刻蝕槽的蓋板

有效

• 申請號: 201220581387.0
• 申請日: 2012-11-07
• 公開（公告）號: CN202839550U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 李茂林;鄭旭然;劉自龍;曾慶云
• 申請（專利權）人: 浙江晶科能源有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306
• 代理公司: 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100
• 代理人: 徐關壽;吳關炳

技術領域

本實用新型涉及一種太陽能電池生產過程中所使用的濕法刻蝕設備的刻蝕槽的蓋板，特別是涉及一種RENA刻蝕設備的刻蝕槽的蓋板，屬于光伏設備制造領域。

背景技術

晶體硅太陽電池常規生產工藝一般包括以下幾個工藝過程：清洗、制絨、擴散、刻蝕和去PSG、PECVD、絲網印刷和燒結。其中刻蝕是晶體硅太陽能電池生產工藝過程中的一個重要環節，它的目的是去掉硅片背面和硅片四周的PN結，達到正面和背面絕緣的目的。目前，Rena?in-line式結構的設備是一種常用的濕法刻蝕設備。他是在HF/HNO3體系中，利用表面張力和毛吸作用力的作用去除邊緣和背面的PN結，而不會影響太陽能電池的工藝結構。這種設備基本結構為：刻蝕槽-水噴淋槽-堿槽-水噴淋槽-去PSG槽-水噴淋槽-吹干。該設備在使用過程中表現出許多優異的性能。

然而，目前RENA刻蝕設備在生產應用中，常會出現刻蝕槽蓋板出現水汽凝結的現象。凝結的液滴會滴落在正在生產流通的硅片上，液滴滴落后會在硅片上發生腐蝕反應，導致硅片的外觀不良甚至片子的PN結被破壞，片子必須返工造成成本的浪費。刻蝕蓋板上凝結的水汽主要是來源于刻蝕槽后的水噴淋槽。水在噴淋過程中會形成大量的水汽，尤其是在氣溫較高的夏季，水的溫度較高，往往要高于生產車間的溫度，水的蒸汽分壓也較大，大量的水蒸汽會進入到刻蝕槽中。而槽體蓋板的溫度是受車間的溫度控制的，會低于進入槽體內的水蒸氣的溫度，當水蒸氣遇到溫度較低的蓋板時就發生凝結。因此，蓋板容易發生水蒸氣凝結的這一問題一直沒有得到解決。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種能防止水蒸氣凝結的RENA刻蝕設備的刻蝕槽的蓋板。

為實現上述目的，本實用新型所采取的技術方案是，一種RENA刻蝕設備的刻蝕槽的蓋板，包括頂層、底層和側邊，為雙層中空結構。

作為一種改進，在所述的頂層上或側邊處設有進氣孔和出氣孔。

作為進一步的改進，在所述的頂層和底層間的中空部位設有引導氣流流動的隔條。

本實用新型具有雙層的中空結構，設置通氣孔，中空部位可通入一定溫度的氣體，起到調控溫度的作用。一方面，兩層結構可以起保溫作用，使底層的溫度與槽體內上方的氣氛的溫度保持一致。因此避免了槽體內的水汽直接接觸到溫度較低的頂層而發生水汽凝結；另一方面，頂層和底層間的中空部位可以通入一定溫度的熱風，使蓋板保持一定的溫度，可以起到更好的防止水汽凝結的效果。未凝結的水汽會通過排風而被排出。

本實用新型的優點是：能夠防止水汽在其上面凝結，從而避免了由于液滴滴落在硅片上而造成的返工，減少了成本的浪費；其結構簡單，易于實現。

附圖說明

圖1為本實用新型一種具體實施方式結構示意圖。

圖2為圖1所示本實用新型一種具體實施方式去掉頂層即不包括頂層時的結構示意圖。

圖3為圖1中A-A視圖。

圖4為圖1中B-B視圖。

具體實施方式

如圖1、圖2、圖3和圖4所示，包括頂層1、底層2和側邊3，中間有空隙，四周通過側邊密封，即為雙層中空結構。頂層1上有進氣孔5和出氣孔6，出氣孔6上方有防護罩7，防護罩7的一側設有通氣孔，頂層1和底層2間的中空部位設有引導氣流流動的隔條4。