[實用新型]一種釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置

有效

• 申請號: 201220579949.8
• 申請日: 2012-10-25
• 公開（公告）號: CN203255548U
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 胡晶晶;胡強國;桂華;李俊;張潔
• 申請（專利權）人: 淮南聯合大學
• 主分類號: B65D88/26
• 分類號: B65D88/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型專利涉及一種釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置，尤其是涉及到一種釹鐵硼工藝處理中氫碎制粉環節的進料料斗裝置。?

背景技術

隨著科技的發展，目前釹鐵硼稀土永磁器件作為不可或缺的電子元件在各電子產品中發揮著重要的作用。工業上面生產釹鐵硼器件其工藝流程中采用氫碎工藝處理釹鐵硼鑄片，生產粉料。在氫碎過程中，首先需要將鑄片添加進氫碎爐。但釹鐵硼鑄片在空氣中易于氧化，在添加鑄片的過程中采用氣氛保護的同時，應盡量縮短鑄片暴露于空氣中的時間，這對減少鑄片的氧化至關重要。?

傳統的進料方法采用人工手段于爐體進料口上方手動添加，按照一桶鑄片重達50KG計算，進料一桶需花費5-10分鐘，這不僅使鑄片長時間暴露于空氣中，增大了被氧化的幾率，而且耗工耗時，嚴重影響了工業化生產效率。?

發明內容

為了縮短氫碎工藝處理釹鐵硼鑄片時鑄片與空氣之間的接觸時間，本實用新型專利提出了一種釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置，有效的解決了這個難題。?

本實用新型專利解決其技術難題采用的方案為：采用新型釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置，其特征是：該料斗裝置由底座支架、半圓狀進料道兩部分組成；其中2條為支撐柱；半圓狀進料道的一端開口直徑大于另一端；裝配時，半圓狀進料道焊接于底座支架的支撐柱上；使用時，半圓狀進料道直徑較小的一端插入氫碎爐進料口。?

如上所述的底座支架的2條支撐柱高為60cm，直徑為6cm。?

如上所述的半圓狀進料道采用厚度為0.1～1cm的鋼板，其中一端開口直徑為40～50cm，另一端開口直徑為15～25cm，兩端之間長度為50～80cm。?

具體的操作步驟如下：?

采用進料料斗裝置代替傳統的人工添加裝置，從而減少被氧化幾率，同時提高生產效率。?

(1)底座支架設計：底座支架設計采用直徑為6cm的鋼材，其中2條支撐柱高為60cm并采用直徑6cm，長40cm的鋼材距離頂端各15cm處焊接于一體。?

(2)半圓狀進料道設計：進料管道采用半圓鋼板設計，其中一端直徑為40～50cm，另一端直徑為15～25cm，兩端之間長度為50～80cm，厚度為0.1～1cm。?

(3)裝配：將(1)與(2)兩個部件焊接連接于一體，得到一種釹鐵硼氫碎制粉工藝用?料斗裝置。?

本實用新型專利的有益效果為：(1)克服了在氫碎過程中，添加鑄片過程周期長，鑄片易于氧化使制粉粉料的性能降低，從而導致產品性能不合格的缺點；(2)極大的減少了工人的勞動量，將生產效率從以往人工每爐料800KG需手動添加1小時減少到每爐料800KG僅需5分鐘即可添加完成。?

附圖說明

圖1為料斗裝置底部支架的前視圖。?

圖2為料斗裝置底部支架的等軸視圖。?

圖3為料斗裝置半圓狀進料道的前視圖。?

圖4為料斗裝置半圓狀進料道的左視圖。?

圖5為料斗裝置半圓狀進料道的俯視圖。?

圖6為料斗裝置半圓狀進料道的等軸視圖。?

具體實施方式

實施例：?

采用新型釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置，其特征是：該料斗裝置由底座支架、半圓狀進料道兩部分組成；其中2條為支撐柱；半圓狀進料道的一端開口直徑大于另一端；裝配時，半圓狀進料道焊接于底座支架的支撐柱上；使用時，半圓狀進料道直徑較小的一端插入氫碎爐進料口。?

如上所述的底座支架的2條支撐柱高為60cm，直徑為6cm。?

如上所述的半圓狀進料道采用厚度為0.1～1cm的鋼板，其中一端開口直徑為40～50cm，另一端開口直徑為15～25cm，兩端之間長度為50～80cm。?

具體的操作步驟如下：?

采用進料料斗裝置代替傳統的人工添加裝置，從而減少被氧化幾率，同時提高生產效率。?

(1)底座支架設計：底座支架設計采用直徑為6cm的鋼材，其中2條支撐柱高為60cm并采用直徑6cm，長40cm的鋼材距離頂端各15cm處焊接于一體。?

(2)半圓狀進料道設計：進料管道采用半圓鋼板設計，其中一端直徑為40～50cm，另一端直徑為15～25cm，兩端之間長度為50～80cm，厚度為0.1～1cm。?

(3)裝配：將(1)與(2)兩個部件焊接連接于一體，得到一種釹鐵硼氫碎制粉工藝用料斗裝置。?

采用該進料料斗裝置將效率從以往人工每爐料800KG需手動添加1小時減少到每爐料800KG僅需5分鐘即可添加完成，極大的提高了工藝流程的效率，同時也降低了工人的勞動?量，減少了釹鐵硼鑄片被氧化的幾率。?