[實(shí)用新型]一種檢測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220577648.1 | 申請日： | 2012-11-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN202916546U | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 門慶國;張文富 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/13 | 分類號(hào)： | G02F1/13;G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人： | 黃燦;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 檢測 裝置 | ||
1.一種檢測裝置，用于顯示基板的檢測，包括：?
基臺(tái)；?
設(shè)置于所述基臺(tái)內(nèi)的可升降的支撐結(jié)構(gòu)；其特征在于，?
所述支撐結(jié)構(gòu)的支撐所述顯示基板的部位的表面為反光的表面。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述支撐結(jié)構(gòu)包括：支撐體，以及與所述支撐體連接的支撐帽；所述支撐帽的上表面為反光的表面。?
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測裝置，其特征在于，所述支撐帽的表面涂覆有反光材料。?
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測裝置，其特征在于，所述支撐帽由反光材料制作。?
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的檢測裝置，其特征在于，所述反光材料包括：全反射率大于一預(yù)定反射率的反光材料。?
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測裝置，其特征在于，所述反光材料包括：微發(fā)泡MCPET材料。?
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，?
所述基臺(tái)包括：玻璃基臺(tái)以及設(shè)置于所述玻璃基臺(tái)底面的反射板；或者?
所述基臺(tái)的底面是反射型的底面。?
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，還包括：設(shè)置于所述基臺(tái)上方，用于發(fā)出光線的光照設(shè)備。?
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的檢測裝置，其特征在于，所述光線的波長在400～700nm之間。?
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，還包括：設(shè)置于所述基臺(tái)上方，用于接收所述基臺(tái)反射的反射光線的觀察設(shè)備。?
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
