[實用新型]一種單晶硅副爐室清理器

有效

• 申請號: 201220570446.4
• 申請日: 2012-11-01
• 公開（公告）號: CN202925150U
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 閆衛東;李櫟
• 申請（專利權）人: 陽光能源（青海）有限公司
• 主分類號: C30B29/06
• 分類號: C30B29/06;C30B35/00
• 代理公司: 西寧工道知識產權代理事務所 63102
• 代理人: 全宏毅

一、技術領域

本實用新型屬于清理器，特別涉及一種單晶硅副爐室清理器。

二、技術背景

制備單晶硅的時候，清理副爐室是很重要的一環，在生產過程中，爐內都會產生揮發物和一些雜質附著到副爐室內壁上，在高溫下易形成二次揮發，使拉晶的環境純度不高，容易造成拉晶環節效率低下。因此仔細清理副爐室是很重要的一環，不能小覷。單晶爐副爐室為Φ320mm×2500mm的細長筒體，清理副爐室的老辦法是用一根約2.8m長的長桿，一端纏毛巾和無塵擦爐紙，然后噴無水乙醇，由人員握另一端，伸入副爐室后上下、旋轉擦拭清理，這樣的清理方式耽誤時間，影響效率，且此種方法為點式操作，從而使副爐室清理不徹底，影響產品質量和生產效率。

三、發明內容

本實用新型的目的是要解決現有技術存在的問題，提供一種能夠徹底清理單晶爐副爐室內雜物的工具。本實用新型是這樣實現的：一種單晶硅副爐室清理器，其特征在于在一個略小于副爐室內徑的圓環（1）上垂直固定一根長于副爐室的直桿（3），在直桿（3）的另一端安裝手柄保護套（4），在圓環（1）上纏繞清潔布（2）。本實用新型是這樣工作的：在本實用新型清潔布（2）表面噴灑擦洗溶劑，手握手柄保護套（4），使圓環（1）上的清潔布（2）緊貼副爐室內壁，進行往復擦拭即可。本實用新型的優點是：清潔布（2）緊貼副爐室內壁，可充分清理副爐室內壁上的雜物，清理速度快，效率高，操作方便，實用簡單，副爐室清理徹底，提高拉晶的環境純度、單晶硅產品質量和生產效率。?

四、附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖。

圖2為圖1右視圖

圖中：1、圓環???2、清潔布??3、直桿??4、手柄保護套。

五、具體實施方式

????實施例1：一種單晶硅副爐室清理器，在一個略小于副爐室內徑的圓環（1）上垂直固定一根長于副爐室的直桿（3），在直桿（3）的另一端安裝手柄保護套（4），在圓環（1）上纏繞清潔布（2）。