[實用新型]用于對氣相進行二次分布的分布裝置及精餾塔

有效

• 申請號: 201220568194.1
• 申請日: 2012-10-31
• 公開（公告）號: CN202921011U
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 陳奎;張健榮;何震;曾小梅
• 申請（專利權）人: 重慶恒遠晉通科技有限公司
• 主分類號: B01D3/14
• 分類號: B01D3/14;B01D3/32
• 代理公司: 北京元本知識產權代理事務所 11308
• 代理人: 周維鋒

技術領域

本實用新型涉及一種化工生產的精餾設備的部件，尤其涉及一種用于對氣體進行二次分布的分布裝置及具體該分布裝置的精餾塔。?

背景技術

在精餾、吸收、解吸填料塔中，氣體和液體的分布對填料塔的分離效果有很大的影響。但由于所述填料塔中填料的各處阻力不同，往往導致氣相從阻力較小處通過，而液相則由逐漸向塔壁集中的趨勢，以致造成塔壁附近的液流量較大以及液相分布不均的現象，從而影響填料塔的塔效率。?

通常情況下，液體收集和再分布裝置，只考慮對液相的二次分布，而未考慮氣相的再分布。因此，需要設計一種可對氣相進行二次收集和再分布的裝置。?

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型提供一種用于對氣體進行二次分布的分布裝置及精餾塔，通過對精餾塔的分布裝置的結構的改進，以解決現有不能夠對氣相進行再分布而影響塔效率的技術問題。?

本實用新型通過以下技術手段解決上述技術問題：?

本實用新型的一種用于對氣相進行二次分布的分布裝置，包括溢流堰，所述溢流堰內設置有第一氣相分布盤和第二氣相分布盤，所述第一氣相分布盤上開設有若干氣孔，且沿其周向設置有擋板，所述擋板與所述溢流堰內壁圍合成供液體流出的降液管，所述第二氣相分布盤設置在所述第一氣相分布盤的下方，且其上設置有升氣管和液相噴淋點。?

進一步地，所述擋板頂部沿徑向設置有溢流槽。?

進一步地，所述升氣管上設置有溢流孔。?

基于上述的用于對氣相進行二次分布的分布裝置，本實用新型還提供一種精餾塔，包括塔體，以及設置在所述塔體內的上述的任意一種用于對氣相進行二次分布的分布裝置。?

本實用新型的有益效果：本實用新型的用于對氣相進行二次分布的分布裝置及精餾塔，通過設置第一氣相分布盤，且其周向設置擋板，因此當被收集的液相可在該第一氣相分布盤上保持一定高度，即在第一氣相分布盤上形成一層液層，使得上升的氣相在相同液層壓力作用下進行均勻的二次分布；同時，由該溢流堰溢流的液體通過降液管流向第二氣相分布盤，并通過液相噴淋管進行液相二次分布，從而提高了塔效率。?

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步描述。?

圖1為本實用新型的用于對氣相進行二次分布的分布裝置的一實施例的結構示意圖。?

具體實施方式

以下將結合附圖對本實用新型進行詳細說明。?

參見圖1，為本實用新型的用于對氣相進行二次分布的分布裝置的一實施例的結構示意圖。具體實施時，本實施例的該用于對氣相進行二次分布的分布裝置包括溢流堰1，該溢流堰1內設置有第一氣相分布盤2和第二氣相分布盤3。其中，第一氣相分布盤2上開設有若干氣孔20，且沿其周向設置有擋板4，該擋板4與上述的溢流堰1內壁圍合成供液體流出的降液管5；第二氣相分布盤3設置在第一氣相分布盤2的下方，其上設置有升氣管31和液相噴淋點。?

本實施例中，該第一氣相分布盤2上的氣孔數目和大小，根據液相流量設計；?第二氣相分布盤3上升氣管31和液相噴淋點的數目和大小，根據液相流量設計；第二氣相分布盤3上的升氣管31的高度根據液相流量設計；第二氣相分布盤3的升氣管31上的溢流孔32根據液相流量設計。?

參見圖1，為了便于第一氣相分布盤2內的液體流出，具體實施時，本實施例中，在擋板4的頂部沿徑向設置有溢流槽。具體實施時，該溢流槽可為間隔設置的“V”形槽，或者連續設置的“V”形槽(即設置成鋸齒狀)。?

參見圖1，為了加快液體流出，本實施例中還可在升氣管31的管壁上設置有溢流孔32。?

基于上述實施例的用于對氣相進行二次分布的分布裝置，本具體實施方式還提供一種精餾塔。具體實施時，本實施例的精餾塔包括塔體，以及設置在該塔體內的上述實施例的用于對氣相進行二次分布的分布裝置。?

最后說明的是，以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案而非限制，盡管參照較佳實施例對本實用新型進行了詳細說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以對本實用新型的技術方案進行修改或者等同替換，而不脫離本實用新型技術方案的宗旨和范圍，其均應涵蓋在本實用新型的權利要求范圍當中。?