[實用新型]核反應堆內真空閥鍍銅鍍鎳鏡面工藝裝置

有效

• 申請號: 201220555720.0
• 申請日: 2012-10-29
• 公開（公告）號: CN202925123U
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 仇士學;張建峰;東永華
• 申請（專利權）人: 南通市申海工業技術科技有限公司
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02;C25D7/04;C25D7/08
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 盧海洋

技術領域

本實用新型涉及一種核反應堆內真空閥鍍銅鍍鎳鏡面工藝裝置，適用于真空閥的鍍銅鍍鎳表面處理工作。

背景技術

真空閥主要用于民用和軍用的核反應堆內，電鍍要求為內腔鍍銅鍍鎳，為局部電鍍產品，因該閥門內腔有流體通過，所以對電鍍面的光潔度有很嚴格的要求，而現有的電鍍比較毛糙，不能符合要求，真空閥因需要先鍍銅后鍍鎳，鍍層的結合力是難點，現有對銅層與鎳層的結合力較差，因此，為解決上述問題，特提供一種新的技術方案。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種核反應堆內真空閥鍍銅鍍鎳鏡面工藝裝置。

本實用新型采用的技術方案是：

核反應堆內真空閥鍍銅鍍鎳鏡面工藝裝置，包括真空閥，所述真空閥中部為中空腔體，所述真空閥的中空腔體內壁設有鏡面，所述真空閥上下兩端設有夾具，所述夾具與真空閥之間通過固定件固定連接，所述真空閥的中空腔體內設有多根陽極，所述多根陽極頂部與夾具固定連接，所述多根陽極與鏡面貼合。

所述固定件為螺栓。

本實用新型的優點是：采用多角度多根陽極設計，保證各位面鍍層均勻致密；采用螺栓與腔體相連，配合導電良好；真空閥工裝保護、阻鍍，同時保證腔體內有藥液流動。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細描述。

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為圖1中真空閥的結構示意圖。

其中：1、真空閥，2、中空腔體，3、鏡面，4、夾具，5、螺栓，6、陽極。

具體實施方式

如圖1和圖2所示，本實用新型的核反應堆內真空閥鍍銅鍍鎳鏡面工藝裝置，包括真空閥1，真空閥1中部為中空腔體2，真空閥1的中空腔體2內壁設有鏡面3，真空閥1上下兩端設有夾具4，夾具4與真空閥1之間通過螺栓5固定連接，真空閥1的中空腔體2內設有多根陽極6，多根陽極6頂部與上端的夾具4固定連接，多根陽極6與鏡面3貼合。

本實用新型的優點是：采用多角度多根陽極設計，保證各位面鍍層均勻致密；采用螺栓與腔體相連，配合導電良好；真空閥工裝保護、阻鍍，同時保證腔體內有藥液流動。