[實(shí)用新型]一種單縱模激光腔結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220554750.X
• 申請日: 2012-10-26
• 公開（公告）號: CN202840233U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳礪;賀坤;楊建陽;趙振宇;劉國宏;陳衛(wèi)民
• 申請（專利權(quán)）人: 福州高意通訊有限公司
• 主分類號: H01S3/098
• 分類號: H01S3/098;H01S3/08
• 代理公司: 福建煉海律師事務(wù)所 35215
• 代理人: 許育輝

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及激光領(lǐng)域，尤其涉及一種微片式的單縱模激光腔結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

為了獲得好的單色性和相干性的激光束，要求激光以單頻振蕩。某些實(shí)際應(yīng)用，如光通訊、激光全息、精密計(jì)量等要求激光具有高單色性、高相干性，必須單頻工作，而縱模選擇又是單頻工作的必要條件。

實(shí)現(xiàn)單縱模通常可通過兩條途徑來實(shí)現(xiàn)：一是設(shè)法壓縮激光器的增益帶寬Δv；二是設(shè)法增大相鄰兩振蕩縱模之間的頻率間隔δv。

一般獲得單縱模的主要方法有:1.短腔長法來增加縱模間隔；2.腔內(nèi)插入標(biāo)準(zhǔn)具、雙折射濾光片等進(jìn)行選擇型損耗；3環(huán)形腔法來消除空間燒空效應(yīng)等。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提出一種新型的微片式單縱模激光腔結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡單、緊湊。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提出的技術(shù)方案為：一種單縱模激光腔結(jié)構(gòu)，包括沿光路依次設(shè)置的增益介質(zhì)、波片和walk-off晶體，所述walk-off晶體輸出端面為刻劃面，分布有刻劃線。

進(jìn)一步的，所述波片為半波片或全波片，所述半波片或全波片由一溫控元件控制，使其為中心波長的半波片或全波片。

進(jìn)一步的，所述增益介質(zhì)、波片和walk-off晶體依次光膠，并深化光膠粘結(jié)為一體。

進(jìn)一步的，所述增益介質(zhì)輸入端面鍍有對振蕩激光高反、對泵浦光增透的膜層；所述walk-off晶體輸出端面鍍有對振蕩激光的部分反射膜層。

進(jìn)一步的，所述增益介質(zhì)輸出光為線偏振光，如Nd:YVO4晶體等。

進(jìn)一步的，所述walk-off晶體為雙折射晶體。

進(jìn)一步的，walk-off晶體優(yōu)選YVO4晶體，其光軸與增益介質(zhì)的光軸之間夾角為45⁰。

本實(shí)用新型的有益效果為：采用在walk-off晶體微片表面的刻劃線對腔內(nèi)起振模式進(jìn)行選擇，使得入射到刻劃線上或其附近的波長光產(chǎn)生損耗，從而抑制該模式的光；僅有單一波長光不在刻劃線上或其附近，從而可在腔內(nèi)起振，實(shí)現(xiàn)單縱模輸出；該激光腔結(jié)構(gòu)簡單、緊湊，易于實(shí)現(xiàn)，可實(shí)現(xiàn)單縱模輸出的微片式激光器。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型激光腔結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型walk-off晶體刻劃面劃線分布實(shí)施例；

圖3為實(shí)施例一起振模式光路示意圖；

圖4為實(shí)施例一刻劃面起振模式光斑位置示意圖；

圖5為實(shí)施例一被抑制模式光路示意圖；

圖6為實(shí)施例一刻劃面被抑制模式光斑位置示意圖；

圖7為實(shí)施例二起振模式光路示意圖；

圖8為實(shí)施例二刻劃面起振模式光斑位置示意圖；

圖9為實(shí)施例二被抑制模式光路示意圖；

圖10為實(shí)施例二刻劃面被抑制模式光斑位置示意圖。

附圖標(biāo)記：1、增益介質(zhì)；2、波片；3、walk-off晶體；31、刻劃面；311、刻劃線。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式，對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

本實(shí)用新型采用在walk-off晶體微片表面進(jìn)行劃線處理，利用刻劃線對腔內(nèi)起振模式進(jìn)行選擇，使得入射到刻劃線上或其附近的波長光產(chǎn)生損耗，從而抑制該模式的光；調(diào)試使得只有某一波長光入射到各刻劃線之間，不在刻劃線上或其附近，從而可在腔內(nèi)起振，實(shí)現(xiàn)單縱模輸出。具體的，如圖1和2所示，本實(shí)用新型的單縱模激光腔結(jié)構(gòu)，包括沿光路依次設(shè)置的增益介質(zhì)1、波片2和walk-off晶體3，walk-off晶體3輸出端面為刻劃面31，分布有刻劃線311，如圖2所示的刻劃線311分布方式為本實(shí)用新型優(yōu)選的一種刻劃線處理方式，刻劃線311也可以采用斜線格、菱形格等其它圖案分布方式。其中，增益介質(zhì)1、波片2和walk-off晶體3依次光膠膠合，并深化光膠粘結(jié)為一體。優(yōu)選的，增益介質(zhì)1輸入端面鍍有對振蕩激光高反、對泵浦光增透的膜層；?walk-off晶體3輸出端面鍍有對振蕩激光的部分反射膜層。其中，波片3可由一溫控元件控制，微調(diào)為中心波長精確的半波片或全波片。