[實用新型]一種用于槽式多晶硅制絨的雙層勻流板

有效

• 申請號: 201220545886.4
• 申請日: 2012-10-24
• 公開（公告）號: CN202989355U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 劉文峰;廖章斌;成文
• 申請（專利權）人: 湖南紅太陽光電科技有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強

技術領域

?本實用新型屬于晶體硅太陽能電池制造領域，涉及一種適用于槽式多晶硅制絨的雙層勻流板。

背景技術

在半導體硅和太陽能電池制造中，槽式濕法制絨工藝是對晶體硅片表面進行濕法蝕刻，形成微溝、絨面，降低硅片表面的反射率，從而使太陽光在硅片表面進行多次反射，以提高光的利用率。

在多晶硅太陽能電池的制備工藝中，目前大多數廠家都是采用價格不菲的進口鏈式制絨設備，原因是市面上的槽式多晶制絨設備還存在幾個大的問題：（1）很難保證制絨后硅片表面絨面的大小及均勻性，這樣當電池制作進行到鍍膜工序時，由于絨面的不均勻會導致鍍膜后出現明顯的色差，從而降級；（2）目前的槽式制絨機都采用單層的勻流板設計，溫度較低的藥液通過勻流板小孔直接噴射到硅片的下表面，很難做到所有硅片上下表面的藥液濃度和溫度達到均勻。?

發明內容

本實用新型要解決的技術問題是，針對現有技術存在的缺陷，提供一種適用于槽式多晶硅制絨的雙層勻流板結構，可有效改善槽式制絨過程中硅片上下表面的藥液濃度和溫度的均勻性。

本實用新型的技術方案為，一種用于槽式多晶硅制絨的雙層勻流板，該勻流板分為上下兩層，并在上層勻流板和下層勻流板上分別設有勻流孔。

所述上層勻流板上的勻流孔與下層勻流板上的勻流孔交錯布置。

所述上層勻流板與下層勻流板之間設有支撐件，防止勻流板變形。

所述上層勻流板頂部設有花籃支撐。

所述上層勻流板與下層勻流板均為聚四氟乙烯板。

本實用新型在原有單層勻流板的基礎上把勻流孔進一步縮小，同時采用雙層勻流板，上下兩層的勻流孔位置錯開，在使用時，溫度較低的藥液不會直接通過勻流孔沖擊到硅片底部，而是通過第一層勻流孔后，遇到第二層勻流板的阻擋，在兩層勻流板之間充分的混合后再從第二層勻流孔中進入到主反應槽。這樣，使得反應槽中的藥液溫度和濃度更加均勻，硅片底部由于不受到新藥夜的沖擊，上下絨面的均勻性得到保證。

本實用新型與現有的勻流板相比，能夠有效改善槽式制絨過程中硅片上下表面的藥液濃度和溫度的均勻性，使硅片制絨后絨面分布更加均勻，鍍膜后顏色均勻，進一步降低反射率。

附圖說明

圖1是本實用新型雙層勻流板結構示意圖；??

圖2是本實用新型雙層勻流板中上層板的結構示意圖。

具體實施方式

????如圖1、圖2所示，一種用于槽式多晶硅制絨的雙層勻流板，該勻流板分為上下兩層，并在上層勻流板2和下層勻流板3上分別設有勻流孔1；上層勻流板2上的勻流孔與下層勻流板3上的勻流孔交錯布置。

上層勻流板2與下層勻流板3之間設有支撐件4，上層勻流板2頂部設有花籃支撐5。

上層勻流板2與下層勻流板3均為聚四氟乙烯板。

其中，勻流孔1的直徑5mm，間距20mm；兩層勻流板面積一樣，厚度均為10mm，間距15mm；花籃支撐，高30mm，寬20mm，長400mm。?