[實用新型]臥式滾筒真空鍍膜機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220541826.5
• 申請日: 2012-10-22
• 公開（公告）號: CN202881373U
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發(fā)明（設計）人: 李志榮;李志方;羅志明
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市匯成真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務所 44275
• 代理人: 張明

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及真空鍍膜設備領(lǐng)域，尤其涉及一種臥式滾筒真空鍍膜機。

背景技術(shù)

現(xiàn)有臥式滾筒真空鍍膜機的真空室絕大多數(shù)為一空心圓筒狀容器，電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶都裝在真空室中央?yún)^(qū)域。因此工作中抽真空的體積為圓筒的容積。抽真空時間長、工作效率低。由于真空室內(nèi)易存在大量的壓縮可凝性水蒸氣，影響鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容

本實用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種可縮短抽真空時間且提高鍍膜質(zhì)量的臥式滾筒真空鍍膜機。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的一個技術(shù)方案是：提供一種臥式滾筒真空鍍膜機，包括空心圓筒狀殼體，所述殼體內(nèi)固定有密封隔板，所述密封隔板將殼體內(nèi)部分為兩個互相獨立的區(qū)域，其中一區(qū)域設置為真空的密封隔離區(qū)，另一區(qū)域為鍍膜室用于容置鍍膜用器件。

其中，所述密封隔板為圓筒狀，密封隔板與所述殼體同軸設置，所述密封隔板內(nèi)部為所述密封隔離區(qū)，密封隔板與殼體之間的環(huán)狀區(qū)域為所述鍍膜室。

其中，所述密封隔板為不銹鋼材質(zhì)。

其中，所述密封隔板的直徑為所述殼體直徑的0.5~0.8倍。

其中，所述殼體直徑為2.8米，所述密封隔板直徑為2米。

本實用新型的有益效果是：本實用新型的臥式滾筒真空鍍膜機中，在殼體內(nèi)建立了一個真空的密封隔離區(qū)，當鍍膜機工作抽真空時僅需抽除此密封隔離區(qū)以外區(qū)域的氣體，在相同容積殼體內(nèi)腔的狀態(tài)下，減少了需要抽真空的體積，大大地減少了抽真空時間，提高了工作效率；并且，抽真空時間短，抽真空的體積小，也減少了鍍膜室內(nèi)壓縮可凝水蒸氣體積，從而提高鍍膜產(chǎn)品膜層質(zhì)量。密封隔離區(qū)保持為真空狀態(tài)，在鍍膜過程避免密封隔離區(qū)向鍍膜室內(nèi)漏氣，保證鍍膜過程中鍍膜室的真空度，從而保證鍍膜質(zhì)量。

附圖說明

圖1是本實用新型臥式滾筒真空鍍膜機一實施例的截面示意圖。

標號說明：

1、殼體；2、密封隔板；3、鍍膜室；4、密封隔離區(qū)；5、工件。

具體實施方式

為詳細說明本實用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實施方式并配合附圖詳予說明。

請參閱圖1，本實施例公開了一種臥式滾筒真空鍍膜機。該臥式滾筒真空鍍膜機包括殼體1和密封隔板2，所述殼體1為空心圓筒狀，密封隔板2為圓筒狀，密封隔板2固定設置于殼體1內(nèi)部，且密封隔板2與殼體1同軸設置。密封隔板2內(nèi)部形成一圓柱形的密封隔離區(qū)4，且該密封隔離區(qū)4內(nèi)為真空，密封隔板2與殼體1之間形成一環(huán)狀區(qū)域，該環(huán)狀區(qū)域即作為鍍膜室3。密封隔板2可以是本身帶兩端端蓋的空心密封筒體，亦可以不帶端蓋，而是與殼體1兩端端蓋密封連接；總之，該密封隔板2使鍍膜室3和密封隔離區(qū)4成為兩個互相獨立的區(qū)域，兩區(qū)域之間沒有氣體交換通道。

該臥式滾筒真空鍍膜機在工作時，用于給工件鍍膜的電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶置于鍍膜室3內(nèi)專門的區(qū)域如殼體1的內(nèi)壁或密封隔板2的外壁，待鍍膜的工件5沿環(huán)狀均勻分布放置于鍍膜室3。通過抽真空裝置對殼體1內(nèi)部抽真空，由于密封隔離區(qū)4本身為密封的真空區(qū)域，且其與鍍膜室3互相獨立，抽真空時僅抽除鍍膜室3內(nèi)的空氣。抽真空后，將殼體1密封，工件5由真空鍍膜機中必要的驅(qū)動部件（可采用現(xiàn)有鍍膜機中的相關(guān)部件，因此在本實施方式中并未詳細說明）帶動繞殼體1的中心軸旋轉(zhuǎn)，電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶對工件5進行鍍膜。

本實用新型的臥式滾筒真空鍍膜機中，在殼體內(nèi)建立了一個真空的密封隔離區(qū)，當鍍膜機工作抽真空時僅需抽除此密封隔離區(qū)以外區(qū)域的氣體，在相同容積殼體內(nèi)腔的狀態(tài)下，減少了需要抽真空的體積，大大地減少了抽真空時間，提高了工作效率；并且，抽真空時間短，抽真空的體積小，也減少了鍍膜室內(nèi)壓縮可凝水蒸氣體積，從而提高鍍膜產(chǎn)品膜層質(zhì)量。密封隔離區(qū)保持為真空狀態(tài)，在鍍膜過程避免密封隔離區(qū)向鍍膜室內(nèi)漏氣，保證鍍膜過程中鍍膜室的真空度，從而保證鍍膜質(zhì)量。