[實(shí)用新型]一種取向膜摩擦裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220535190.3 | 申請日： | 2012-10-18 |
| 公開（公告）號： | CN202837753U | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉鋒;肖印 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 取向 摩擦 裝置 | ||
1.一種取向膜摩擦裝置，其特征在于，包括：
至少一個摩擦輥，以及設(shè)置于所述摩擦輥一側(cè)的摩擦基臺，所述摩擦基臺包括朝向所述摩擦輥的基臺面，其中，所述基臺面為向所述摩擦基臺內(nèi)部凹陷的曲面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述向所述摩擦基臺內(nèi)部凹陷的曲面為弧形面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥包括轉(zhuǎn)動軸，以及設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動軸上的摩擦布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥為圓柱體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥的長度在1米至4米的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥的直徑在80毫米至200毫米的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向膜摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥的長度大于所述摩擦基臺的寬度。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
