[實用新型]均勻涂布機有效
| 申請號: | 201220532517.1 | 申請日: | 2012-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN202921449U | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發明(設計)人: | 林秀云 | 申請(專利權)人: | 吳江市元通紡織品有限公司 |
| 主分類號: | B05B5/08 | 分類號: | B05B5/08;B05B12/08;B05B13/02 |
| 代理公司: | 常州市維益專利事務所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
| 地址: | 215228 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 均勻 涂布機 | ||
1.一種均勻涂布機,包括輸送基材(100)的涂布輥(210、220),其特征在于:所述涂布輥(210、220)輸送的基材(100)的上下方分別設置有連接正負電極的上基板(320)和下基板(310),所述上基板(320)上均布有涂料霧化機構(350),所述上基板(320)和下基板(310)之間還設置有涂層濃度監測器。
2.根據權利要求1所述的均勻涂布機,其特征在于:所述涂布輥(210、220)為導電金屬材質,所述涂布輥(210、220)接地。
3.根據權利要求2所述的均勻涂布機,其特征在于:所述涂料霧化機構(350)為超聲波霧化器。
4.根據權利要求3所述的均勻涂布機,其特征在于:所述涂層濃度監測器為設置在所述基材下方的電容感應器(500)。
5.根據權利要求3所述的均勻涂布機,其特征在于:所述涂層濃度監測器為設置在所述基材(100)與所述上基板(320)之間并平行于所述上基板(320)的一對對射的光發射頭(410)和光接收頭(420)。
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