[實(shí)用新型]低反光增印保護(hù)膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220532510.X | 申請日： | 2012-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN202934876U | 公開（公告）日： | 2013-05-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金闖;張慶杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 斯迪克新型材料（江蘇）有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/10;B32B33/00;B32B3/30;B32B27/30 |
| 代理公司： | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人： | 馬明渡 |
| 地址： | 223900 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反光 保護(hù)膜 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.?一種低反光增印保護(hù)膜，其特征在于：包括一基材層（1），此基材層（1）上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層（2），此基材層（1）下表面通過有機(jī)硅壓敏膠（3）與一離型膜（4）粘合連接；所述離型膜（4）包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層（41）的原紙層（42）和薄膜層（43），此薄膜層（43）和原紙層（42）通過一膠粘劑層（44）粘接；所述霧面抗靜電涂層（41）另一表面涂覆有離型劑涂層（45），此霧面抗靜電涂層（41）與離型劑涂層（45）接觸的表面的粗糙度為2.821um～3.324um，離型劑涂層（45）另一表面具有若干個凸起部（46）。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的低反光增印保護(hù)膜，其特征在于：所述霧面抗靜電涂層（1）與離型劑涂層（5）接觸的表面的粗糙度為2.921?um或者3.12?um。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的低反光增印保護(hù)膜，其特征在于：所述薄膜層（43）為聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
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