[實用新型]溴化鉀及工作場所空氣中粉塵樣品的研磨裝置有效
| 申請號: | 201220523510.3 | 申請日: | 2012-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN202814775U | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發明(設計)人: | 陳曉;張國英;竇丹丹 | 申請(專利權)人: | 山東電力集團公司電力科學研究院;國家電網公司 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 張勇 |
| 地址: | 250002 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溴化鉀 工作 場所 空氣 粉塵 樣品 研磨 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種研磨裝置,尤其涉及一種在“工作場所粉塵中游離二氧化硅含量的測定-紅外光譜法”中對溴化鉀及工作場所空氣中粉塵樣品的研磨裝置。
背景技術
紅外光譜法因其快速、方便而逐漸取代傳統焦磷酸法用于粉塵中游離二氧化硅含量的測定。紅外光譜法是通過稱取一定量的粉塵樣品與一定量的溴化鉀粉末充分混合后壓成薄片,然后對薄片進行紅外光譜掃描進而得到粉塵樣品中游離二氧化硅的含量。紅外光譜法對樣品有以下要求:一是溴化鉀粉末及粉塵樣品必須經過充分均勻研磨,且經過200目篩后再稱量混勻壓片;二是在研磨過程中要始終保持樣品干燥,因此在研磨溴化鉀及粉塵樣品時,研磨人員必須帶口罩;三是必須用瑪瑙研磨。目前,實驗室均采用瑪瑙研缽手工研磨溴化鉀及粉塵樣品,實驗中溴化鉀需要量較大,用瑪瑙研缽一次只能研磨2-3克,每研磨一批需要2-3個小時;而含游離二氧化硅的粉塵樣品的硬度很高,想要研磨達到實驗要求,往往研磨幾個小時才能磨好1-2克。費時費力且不容易達到制樣要求,并且如果實驗人員長期研磨容易得腱鞘炎,不利于職業衛生。
目前,電動研磨裝置像球磨機等均適用于大量物質的研磨,而適用于實驗室的少量且超硬物質的研磨裝置極少。專利號CN201020573632.4瑪瑙研缽礦物材料研磨機可用于少量超硬材料的研磨,用此裝置進行實驗用溴化鉀和粉塵樣品的研磨有以下弊端:第一,其錘頭加研缽的設計使研磨面很小,研缽內的大部分粉末會被擠到四周得不到研磨,致使研磨不均勻,研磨完畢后還要單獨過200目篩,這樣使得操作步驟復雜,增加了溴化鉀和粉塵樣品受污染的風險。第二,其研缽內一次只能放入2-3克的樣品,每磨2-3克樣品必須把加樣、研磨、轉移樣品的過程操作一遍,操作較繁瑣。第三,此裝置是敞開式的,空氣中的灰塵和水蒸汽容易在研磨過程中進入樣品中,從而污染樣品。
實用新型內容
本實用新型的目的就是為解決上述問題,提供一種溴化鉀及工作場所空氣中粉塵樣品的研磨裝置。
為實現上述目的,本實用新型采用如下技術方案:
一種二氧化硅粉末及含二氧化硅粉塵研磨裝置,包括機頭、進樣裝置和研磨裝置;所述機頭包括頂部和下部,機頭頂部內置一個動力裝置,機頭下部包括一個機罩,所述的研磨裝置包括上磨和下磨,上磨的下表面和下磨的上表面進行配合,所述的動力裝置驅動上磨運行,所述進樣裝置安裝在上模上,在機頭的下方有一個收集裝置,所述的收集裝置內表面與下磨相配合,外表面與機罩相配合,在所述的收集裝置上有一個目篩,所述的上磨和下磨為瑪瑙磨。
所述的上磨是一個扁圓柱體,上磨的下表面和下磨的上表面通過凹槽和突起進行配合,上磨的中心線一側有一個貫穿上磨的圓柱形通道,通道的上端與進樣裝置相通。
所述的下磨分為兩個部分,上面的扁圓柱體的底面與上磨底面的半徑相同,下磨的下半部分是比上半部分底面半徑略小一點的圓柱體。
所述的動力裝置包括一個減速機,減速機通過一個壓緊裝置和傳動桿與上磨的上表面相連。
所述的進樣裝置為一個V形樣品儲藏室。
所述的動力裝置包括一個減速機,減速機通過一個壓緊裝置和傳動桿與上磨的上表面相連。
所述收集裝置包括圓環形的不銹鋼盒子,盒子的內徑大于下磨的下半部分的底面半徑小于上半部分的底面半徑,外徑與機罩的半徑相同,并通過四個鎖扣與機罩相配套;盒子的高度與下磨的下半部分相同;盒子的上端的目篩由200目篩網制成的圓環形的可自由拿下的蓋;收集盒由下磨的下端套入與機罩相連接并通過鎖扣卡緊。
所述傳動桿是一個圓柱形的不銹鋼短桿,它的兩端均設有十字形突起,一端與機頭的壓緊裝置相卡接,一端與上磨上表面中心的十字凹槽相卡接。
所述彈簧壓緊裝置包括不銹鋼圓環,圓環的中間是一段長于此圓環的彈簧,圓環的一端與減速機相連,圓環的另一端設有一個十字形的凹槽,與設有十字形突起的傳動桿卡接。
在使用時,將上磨下磨及收集裝置卡好,將將溴化鉀或含游離二氧化硅的粉塵樣品注滿進樣通道及樣品儲藏室,接上傳動桿和機頭,將四個鎖扣鎖好,開始機頭上的減速機,減速機通過壓緊裝置、傳動桿使上磨轉動,減速機運行產生的微小的振動使溴化鉀或含游離二氧化硅的粉塵樣品通過進樣通道進入上磨與下磨之前的研磨面而得到研磨,通過不斷的研磨和進樣,研磨面上最先進入的樣品邊被研磨邊向四周移動最終通過200目篩后進入收集裝置中儲存,等磨完樣品儲藏室中的所有樣品后,打開機罩拿掉機頭、上磨,將上下磨研磨表面上的磨好的樣本用小刷子掃到四周通過200目篩進入收集裝置,之后將沒過篩的樣品倒入樣品儲藏室重新研磨。
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