[實用新型]用于掩膜板的防塵保護裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220520563.X | 申請日: | 2012-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN202794841U | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 覃柳莎 | 申請(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 掩膜板 防塵 保護裝置 | ||
1.一種用于掩膜板的防塵保護裝置,所述掩膜板具有圖案區(qū)域,所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架,所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域,其特征在于,所述框架包括多個首尾相連的邊框,其中至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。
2.如權(quán)利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框為單層結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化。
4.如權(quán)利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框為多層結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框為兩層結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框的兩層結(jié)構(gòu)包括:靠近所述掩膜板的第一層邊框和靠近所述保護薄膜的第二層邊框,所述第一層邊框和第二層邊框之間粘合連接。
7.如權(quán)利要求6所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述第一層邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化。
8.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框為三層結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框的三層結(jié)構(gòu)包括:靠近所述掩膜板的第一層邊框、靠近所述保護薄膜的第三層邊框和位于第一層邊框和第三層邊框之間的第二層邊框,所述第一層邊框、第二層邊框和第三層邊框之間粘合連接。
10.如權(quán)利要求9所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述第一層邊框的寬度朝所述掩膜板的方向均勻變大。
11.如權(quán)利要求10所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述第三層邊框的寬度朝所述保護薄膜的方向均勻變大。
12.如權(quán)利要求4至11中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框的多層結(jié)構(gòu)是同種材質(zhì)。
13.如權(quán)利要求4至11中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置,其特征在于,所述邊框的多層結(jié)構(gòu)是不同材質(zhì)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





