[實用新型]觸控裝置結構

有效

• 申請號: 201220515653.X
• 申請日: 2012-09-27
• 公開（公告）號: CN202838265U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 張恒耀;張振炘;吳孟學;伍哲毅;陳麗嫻
• 申請（專利權）人: 寶宸(廈門)光學科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及觸控技術領域，特別是有關于一種觸控裝置結構。

背景技術

隨著資訊科技的發展，觸控裝置成為人機之間資訊傳遞的方式之一。觸控裝置分為可視區及邊框區，在可視區中制作電極，在邊框區分布電極引線，電極引線通過軟性電路板將電極的訊號傳遞到訊號處理器中，完成觸控感應的功能。通常電極是由復數X方向電極及復數Y方向電極交錯排列所構成，X方向電極及Y方向電極形成于不同的層位，且X方向電極與Y方向電極通過絕緣層相互絕緣。

這種具有多層電極的觸控裝置的制作方法，通常是通過濺鍍及光刻制程在基底上依序制作出X方向電極、覆蓋X方向的絕緣層以及Y方向電極。然而，上述觸控裝置的制作方法中，形成次一層結構時會對前一步驟已形成之層結構產生影響。例如，上述制作方法中經過多次真空濺鍍、曝光、顯影與蝕刻制程后，電極可能會出現裂紋或脫離基底等問題。

另外，上述制作方法需要真空鍍膜及光刻制程的多道程序，所需設備昂貴，制作成本較高，且化學藥劑污染性大。

因此，有必要尋求一種新的觸控裝置結構之制造方法，其能夠解決或改善上述的問題。

實用新型內容

本實用新型提供一種觸控裝置結構，通過轉印制程制作絕緣層及感測電極，以降低或排除形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產生的不良影響，進而提升良率。

本實用新型提供一種觸控裝置結構，包括一基底，基底區分有一可視區；復數第一感測電極，相互間隔地設置于可視區的基底上；一絕緣層，設置于第一感測電極上；一轉印基膜；以及復數第二感測電極，相互間隔地設置于轉印基膜上，其中第二感測電極通過轉印制程形成于絕緣層上，且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列，且通過絕緣層相互絕緣。

本實用新型提供另一種觸控裝置結構，包括一基底，基底區分有一可視區；復數第一感測電極，相互間隔地設置于可視區的基底上；一轉印基膜；復數第二感測電極，相互間隔地設置于轉印基膜上；以及一絕緣層，設置于第二感測電極上，其中第二感測電極及絕緣層通過轉印制程形成于第一感測電極上，且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列，且通過絕緣層相互絕緣。

本實用新型提供另一種觸控裝置結構，包括一基底，基底區分有一可視區，且具有第一表面及與第一表面相對的第二表面；復數第一感測電極，相互間隔地設置于基底的第一表面上；第二轉印基膜；以及復數第二感測電極，相互間隔地設置于第二轉印基膜上，其中第二感測電極通過轉印制程設置于基底的第二表面上，且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列，且通過基底相互絕緣。

進一步的，更包括一第一轉印基膜，該等第一感測電極設置于該第一轉印基膜上，且該等第一感測電極通過額外的轉印制程設置于該基底的該第一表面上。

進一步的，該基底更區分有圍繞該可視區的一邊框區，且該觸控裝置結構更包括復數引線，該等引線設置于該邊框區的該基底上，以分別電性連接于該等第一感測電極及該等第二感測電極。

進一步的，該基底更區分有圍繞該可視區的一邊框區，且該觸控裝置結構更包括復數引線，該等引線設置于該轉印基膜上，且對應于該邊框區，以分別電性連接于該等第一感測電極及該等第二感測電極。

進一步的，該等第二感測電極的材質包括納米銀溶膠、銦錫氧化物溶膠、銦鋅氧化物溶膠、銦錫氟氧化物溶膠、鋁鋅氧化物溶膠、氟鋅氧化物溶膠、納米碳管溶膠或導電高分子溶膠。

根據本實用新型實施例，由于通過轉印制程制作觸控裝置的絕緣層及感測電極，可將多層結構分成兩部分形成，因此與通過濺鍍及光刻制程的傳統制造方法相比，可以降低形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產生的不良影響，進而提升良率。再者，以轉印制程取代濺鍍及光刻制程，可簡化制程，進而提高生產效率。另外由于無需昂貴的制程(例如，濺鍍及光刻制程)設備，因此可提高價格競爭優勢以及降低化學藥劑的污染。

附圖說明

圖1A至1E為本實用新型一實施例之觸控裝置結構制造方法剖面示意圖；

圖2A至2E為本實用新型另一實施例之觸控裝置結構制造方法剖面示意圖；

圖3A至3C為本實用新型另一實施例之觸控裝置結構結構制造方法剖面示意圖；

圖1D、2D、3B-2及3B-2為本實用新型不同實施例之觸控裝置結構剖面示意圖；以及

圖4為圖1D所示觸控裝置結構的爆炸圖。

具體實施方式