[實用新型]一種聚焦補償裝置有效
| 申請號： | 201220506677.9 | 申請日： | 2012-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN202854393U | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 周丕軒;周偉鋒 | 申請（專利權）人： | 帝麥克斯(蘇州)醫療科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B21/00 | 分類號： | G02B21/00;G02B21/36 |
| 代理公司： | 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102 | 代理人： | 陸明耀;姚姣陽 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州市蘇州工*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 聚焦 補償 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚焦補償裝置，用于獨立地調節多軸成像的復數個的光學成像元件的最佳成像平面，其特征在于：所述光學成像元件為顯微鏡，所述聚焦補償裝置包括復數個的具有多個不同的部件的圖像位置偏移裝置，所述圖像位置偏移裝置包括一光路徑長度改變元件，所述光路徑長度改變元件設置在所述顯微鏡的光路中。
2.根據權利要求1所述的一種聚焦補償裝置，其特征在于：所述顯微鏡為微型顯微鏡陣列。
3.根據權利要求1所述的一種聚焦補償裝置，其特征在于：所述光路徑長度改變元件包括一平面平行板。
4.根據權利要求3所述的一種聚焦補償裝置，其特征在于：至少兩個的所述光路徑長度改變元件設置在同一個的支承部件上。
5.根據權利要求4所述的一種聚焦補償裝置，其特征在于：一防反射涂層設置在所述支承部件的至少一個面上。
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